PZT厚膜的电射流沉积研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 PZT厚膜及其应用 | 第9-14页 |
| 1.1.1 压电材料与PZT厚膜 | 第9-10页 |
| 1.1.2 PZT厚膜的制备方法 | 第10-12页 |
| 1.1.3 PZT厚膜的应用 | 第12-14页 |
| 1.2 电射流沉积技术简介 | 第14-17页 |
| 1.2.1 电射流沉积的原理 | 第14-15页 |
| 1.2.2 电射流沉积的应用 | 第15-17页 |
| 1.3 本论文的工作与研究思路 | 第17-18页 |
| 2 PZT悬浮液的制备及PZT厚膜的性能表征 | 第18-24页 |
| 2.1 电射流沉积实验装置 | 第18-19页 |
| 2.2 PZT悬浮液的制备 | 第19页 |
| 2.3 PZT悬浮液的性质测试 | 第19-22页 |
| 2.4 PZT厚膜的性能表征 | 第22-23页 |
| 2.4.1 PZT厚膜压电性能测试 | 第22-23页 |
| 2.4.2 PZT厚膜介电性能测试 | 第23页 |
| 2.5 本章小结 | 第23-24页 |
| 3 硅衬底的电射流沉积PZT厚膜 | 第24-37页 |
| 3.1 硅片的清洗 | 第24页 |
| 3.2 电射流沉积PZT厚膜工艺过程 | 第24页 |
| 3.3 电射流参数对厚膜的影响 | 第24-27页 |
| 3.3.1 沉积高度对厚膜的影响 | 第25-26页 |
| 3.3.2 流量对厚膜的影响 | 第26-27页 |
| 3.4 悬浮液混合条件对PZT厚膜的影响 | 第27-29页 |
| 3.4.1 PZT悬浮液的球磨处理 | 第27-28页 |
| 3.4.2 球磨时间对PZT厚膜致密性的影响 | 第28-29页 |
| 3.5 PZT厚膜的性能表征 | 第29-33页 |
| 3.6 PZT厚膜的溶胶渗透 | 第33-35页 |
| 3.7 本章小结 | 第35-37页 |
| 4 PZT厚膜的机械抛光及性能分析 | 第37-45页 |
| 4.1 PZT厚膜的机械抛光工艺 | 第37-39页 |
| 4.2 机械抛光PZT厚膜的分析 | 第39-41页 |
| 4.3 PZT膜厚度对其性能的影响分析 | 第41-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 5 柔性衬底的电射流沉积PZT厚膜 | 第45-51页 |
| 5.1 铁镍合金衬底的PZT厚膜沉积 | 第45-48页 |
| 5.1.1 铁镍合金衬底的PZT厚膜制备 | 第45-46页 |
| 5.1.2 铁镍合金衬底的PZT厚膜性能表征 | 第46-48页 |
| 5.2 不锈钢衬底的PZT厚膜沉积 | 第48-50页 |
| 5.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
