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苯并噻二唑类给受体型纳米格子的设计、合成及忆阻性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
专用术语注释表第9-10页
第一章 绪论第10-23页
    1.1 引言第10页
    1.2 忆阻器(Memristor)的提出和发展第10-11页
    1.3 忆阻器(Memristor)的应用第11-13页
    1.4 忆阻(Memristive)材料第13-16页
    1.5 有机半导体的四元设计原理第16-18页
    1.6 苯并噻二唑(BT)类有机半导体第18-20页
    1.7 有机大环分子第20页
    1.8 有机纳米格子半导体的提出和发展第20-22页
    1.9 课题提出与论文设计思想第22-23页
第二章 苯并噻二唑类“口”字形纳米格子设计合成和忆阻性能研究第23-44页
    2.1 引言第23-24页
    2.2 实验部分第24-33页
        2.2.1 实验原料和试剂第24-25页
        2.2.2 综合测试与表征第25-26页
        2.2.3 合成实验第26-33页
    2.3 结果与讨论第33-43页
        2.3.1 合成与结构表征第33-35页
        2.3.2 热学性质第35-36页
        2.3.3 光学性质第36-38页
        2.3.4 电化学性质第38-39页
        2.3.5 理论计算第39-41页
        2.3.6 两端型有机二极管器件第41-43页
    2.4 本章小结第43-44页
第三章 苯并噻二唑类互握式纳米格子合成和忆阻性能研究第44-58页
    3.1 引言第44页
    3.2 实验部分第44-49页
        3.2.1 实验原料和试剂第44-45页
        3.2.2 综合表征测试第45页
        3.2.3 合成实验第45-49页
    3.3 结果与讨论第49-57页
        3.3.1 合成与结构表征第49-51页
        3.3.2 热学性质第51-52页
        3.3.3 光学性质第52-54页
        3.3.4 电化学性质第54-55页
        3.3.5 两端型有机二极管器件第55-57页
    本章小结第57-58页
第四章 苯并噻二唑类三苯胺桥“口”字形格子及其聚格子的合成与忆阻性能研究第58-70页
    4.1 引言第58页
    4.2 实验部分第58-63页
        4.2.1 原料和试剂第58-59页
        4.2.2 测试表征第59页
        4.2.3 合成实验第59-63页
    4.3 结果讨论第63-68页
        4.3.1 合成与结构表征第63-64页
        4.3.2 热学性质第64-65页
        4.3.3 光学性质第65-66页
        4.3.4 电化学性质第66-67页
        4.3.5 两端型有机二极管器件第67-68页
    本章小结第68-70页
第五章 总结与展望第70-72页
参考文献第72-78页
附录1 附图第78-106页
附录2 攻读硕士学位期间撰写的论文第106-107页
附录3 攻读硕士学位期间申请的专利第107-108页
附录4 攻读硕士学位期间参加的科研项目第108-109页
致谢第109页

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