不锈钢无铬电解着色膜坚膜工艺及性能的研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 前言 | 第10页 |
| 1.2 不锈钢着色技术的发展 | 第10-11页 |
| 1.3 不锈钢着色技术的应用 | 第11-12页 |
| 1.4 不锈钢着色技术的分类 | 第12-14页 |
| 1.4.1 化学着色法 | 第13页 |
| 1.4.2 电化学着色法 | 第13页 |
| 1.4.3 第二类电化学方法 | 第13-14页 |
| 1.4.4 其他方法 | 第14页 |
| 1.5 不锈钢无铬电解着色技术 | 第14-19页 |
| 1.5.1 无铬电解着色技术的概述和发展 | 第14-15页 |
| 1.5.2 无铬电解着色技术的特点 | 第15页 |
| 1.5.3 不锈钢着色工艺前处理现状 | 第15-17页 |
| 1.5.4 改善无铬体系电解着色膜性能的关键 | 第17-19页 |
| 1.6 研究的目的和主要内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验仪器及实验方法 | 第20-28页 |
| 2.1 实验材料、试剂及仪器 | 第20-22页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第20页 |
| 2.1.2 实验主要仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.3 实验主要试剂 | 第21-22页 |
| 2.2 不锈钢无铬电解着色工艺流程及实验装置 | 第22-25页 |
| 2.2.1 工艺流程 | 第22-24页 |
| 2.2.2 实验装置 | 第24-25页 |
| 2.3 实验方法 | 第25-28页 |
| 2.3.1 无铬电解着色液槽液配制 | 第25页 |
| 2.3.2 槽液的维护和调整 | 第25-26页 |
| 2.3.3 无铬体系电解着色膜性能检测方法 | 第26-28页 |
| 第3章 不锈钢无铬电解着色坚膜工艺的机理研究 | 第28-37页 |
| 3.1 前言 | 第28页 |
| 3.2 不锈钢电解抛光机理及对电解着色膜影响分析 | 第28-31页 |
| 3.2.1 不锈钢电解抛光机理 | 第28-29页 |
| 3.2.2 不锈钢电解抛光对电解着色膜影响分析 | 第29-31页 |
| 3.3 不锈钢电解活化机理及对电解着色膜影响分析 | 第31-34页 |
| 3.3.1 不锈钢电解活化机理 | 第31-32页 |
| 3.3.2 不锈钢电解活化对电解着色膜影响分析 | 第32-34页 |
| 3.4 不锈钢固膜机理及其对电解着色膜影响分析 | 第34-36页 |
| 3.4.1 不锈钢固膜机理 | 第34-35页 |
| 3.4.2 不锈钢固膜对电解着色膜影响分析 | 第35-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 电解抛光和电解活化研究分析 | 第37-46页 |
| 4.1 前言 | 第37页 |
| 4.2 电解抛光主要因素分析 | 第37-43页 |
| 4.2.1 抛光基础液 | 第37-38页 |
| 4.2.2 基材表面状态 | 第38-41页 |
| 4.2.3 胺类添加剂 | 第41-43页 |
| 4.3 电解活化主要因素分析 | 第43-45页 |
| 4.3.1 活化基础液 | 第44页 |
| 4.3.2 不锈钢阳极极化曲线 | 第44-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 电解抛光和电解活化工艺的优化 | 第46-65页 |
| 5.1 引言 | 第46页 |
| 5.2 电解抛光配方的确定 | 第46-55页 |
| 5.2.1 正交因素与水平的确定 | 第46-47页 |
| 5.2.2 不锈钢电解着色膜性能评定参数 | 第47-48页 |
| 5.2.3 实验结果分析 | 第48-50页 |
| 5.2.4 单因素实验 | 第50-55页 |
| 5.3 电解活化配方的确定 | 第55-63页 |
| 5.3.1 正交因素与水平的确定 | 第55-56页 |
| 5.3.2 不锈钢着色膜层性能评定参数 | 第56-57页 |
| 5.3.3 实验结果分析 | 第57-59页 |
| 5.3.4 单因素实验 | 第59-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第6章 固膜工艺的研究 | 第65-73页 |
| 6.1 引言 | 第65页 |
| 6.2 固膜体系的确定 | 第65-69页 |
| 6.2.1 五种固膜工艺配方 | 第65-66页 |
| 6.2.2 无铬电解着色膜固膜后耐蚀性 | 第66-67页 |
| 6.2.3 无铬电解着色膜固膜后耐磨性 | 第67-69页 |
| 6.3 硅溶胶固膜技术及特点 | 第69-72页 |
| 6.3.1 硅溶胶的基本属性 | 第69-70页 |
| 6.3.2 硅溶胶的制备 | 第70页 |
| 6.3.3 硅溶胶涂覆工艺 | 第70页 |
| 6.3.4 硅溶胶固膜对膜层性能影响 | 第70-72页 |
| 6.4 本章小结 | 第72-73页 |
| 第7章 无铬体系与含铬体系电解着色膜的性能比较 | 第73-84页 |
| 7.1 引言 | 第73页 |
| 7.2 电解着色体系的工艺性能 | 第73-74页 |
| 7.3 电解着色膜的微观形貌 | 第74-78页 |
| 7.3.1 电解着色膜的微观形貌 | 第74-76页 |
| 7.3.2 着色膜光电子能谱分析 | 第76-78页 |
| 7.4 电解着色膜的常规性能 | 第78-82页 |
| 7.4.1 外观 | 第78-79页 |
| 7.4.2 光泽度 | 第79-80页 |
| 7.4.3 耐蚀性 | 第80-81页 |
| 7.4.4 耐磨性 | 第81-82页 |
| 7.4.5 色阶 | 第82页 |
| 7.5 本章小结 | 第82-84页 |
| 第8章 结论及展望 | 第84-86页 |
| 8.1 结论 | 第84-85页 |
| 8.2 后续工作与展望 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 攻读硕士期间发表论文与科研情况 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
