| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 光催化半导体材料及其催化原理 | 第10-13页 |
| 1.2.1 光催化材料的简单介绍 | 第10-12页 |
| 1.2.2 半导体材料的光催化原理 | 第12-13页 |
| 1.3 钼酸盐光催化剂的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.4 钼酸盐纳米材料的表征手段 | 第15页 |
| 1.5 钼酸盐材料的应用 | 第15-17页 |
| 1.6 本课题研究意义、选题思路及主要内容 | 第17-19页 |
| 1.6.1 研究意义 | 第17页 |
| 1.6.2 选题思路 | 第17页 |
| 1.6.3 主要研究内容 | 第17-19页 |
| 2 试剂、仪器及其表征 | 第19-22页 |
| 2.1 实验原料和仪器 | 第19页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第19页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第19页 |
| 2.2 材料表征与分析 | 第19-22页 |
| 2.2.1 样品XRD表征 | 第19页 |
| 2.2.2 透射、高分辨投射电镜表征 | 第19-20页 |
| 2.2.3 紫外分光光度仪 | 第20页 |
| 2.2.4 傅里叶变换红外光谱仪 | 第20页 |
| 2.2.5 光化学反应平台 | 第20页 |
| 2.2.6 光催化测试所应用的公式 | 第20-22页 |
| 3 钼酸铜纳米材料的制备及其光催化性能 | 第22-28页 |
| 3.1 概述 | 第22页 |
| 3.2 实验内容 | 第22-23页 |
| 3.2.1 Cu_3Mo_2O_9的制备 | 第22-23页 |
| 3.2.2 光催化降解实验过程 | 第23页 |
| 3.3 结果和讨论 | 第23-25页 |
| 3.3.1 样品X-射线衍射分析 | 第23-24页 |
| 3.3.2 样品的透射电镜和高分辨透射电镜图分析 | 第24页 |
| 3.3.3 UV-VIS表征分析 | 第24-25页 |
| 3.3.4 FTIR表征分析 | 第25页 |
| 3.4 Cu_3Mo_2O_9材料的光催化性能研究 | 第25-26页 |
| 3.4.1 光催化性能和动力学性能 | 第25-26页 |
| 3.5 本章小结 | 第26-28页 |
| 4 Bi_2MoO_6的制备及其光催化性能研究 | 第28-34页 |
| 4.1 引言 | 第28页 |
| 4.2 实验内容 | 第28页 |
| 4.2.1 钼酸铋材料的制备 | 第28页 |
| 4.3 Bi_2MoO_6光催化剂的表征 | 第28-31页 |
| 4.3.1 样品的XRD表征分析 | 第28-29页 |
| 4.3.2 Bi_2MoO_6的形貌分析 | 第29-30页 |
| 4.3.3 对Bi_2MoO_6样品的UV-VIS表征 | 第30-31页 |
| 4.3.4 红外光谱测试 | 第31页 |
| 4.4 Bi_2MoO_6光催化性能的评价 | 第31-33页 |
| 4.4.1 光催化性能的研究 | 第31-32页 |
| 4.4.2 动力学性能评价 | 第32-33页 |
| 4.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 5 Ag_2MoO_4光催化剂的制备及其性能研究 | 第34-40页 |
| 5.1 引言 | 第34页 |
| 5.2 实验内容 | 第34-35页 |
| 5.2.1 光催化剂Ag_2MoO_4的制备 | 第34页 |
| 5.2.2 光催化降解实验 | 第34-35页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第35-39页 |
| 5.3.1 对样品的XRD表征分析 | 第35-36页 |
| 5.3.2 对样品的形貌分析 | 第36页 |
| 5.3.3 催化剂Ag_2MoO_4的光吸收特征与光催化活性 | 第36-39页 |
| 5.4 本章总结 | 第39-40页 |
| 6 结论与展望 | 第40-42页 |
| 6.1 结论 | 第40页 |
| 6.2 展望 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
