超导太赫兹辐射源物性与调控研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| 英文摘要 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-46页 |
| 1.1 超导电性 | 第12-23页 |
| 1.1.1 零电阻和抗磁性 | 第13-14页 |
| 1.1.2 超导体类别 | 第14-17页 |
| 1.1.2.1 转变温度分类 | 第14-16页 |
| 1.1.2.2 抗磁性分类 | 第16-17页 |
| 1.1.3 超导电磁特性 | 第17-18页 |
| 1.1.3.1 伦敦唯像方程 | 第17-18页 |
| 1.1.3.2 宏观物质波函数 | 第18页 |
| 1.1.4 约瑟夫森结 | 第18-23页 |
| 1.1.4.1 RCSJ模型 | 第19-20页 |
| 1.1.4.2 弱连接种类 | 第20-21页 |
| 1.1.4.3 本征约瑟夫森结 | 第21-23页 |
| 1.2 太赫兹波 | 第23-31页 |
| 1.2.1 麦克斯韦方程 | 第23-24页 |
| 1.2.2 电磁频谱 | 第24-26页 |
| 1.2.3 太赫兹技术 | 第26-28页 |
| 1.2.3.1 太赫兹应用领域 | 第26-27页 |
| 1.2.3.2 太赫兹技术手段 | 第27-28页 |
| 1.2.4 太赫兹辐射源 | 第28-31页 |
| 1.2.4.1 倍频辐射源 | 第29-30页 |
| 1.2.4.2 量子级联激光器 | 第30-31页 |
| 1.3 超导太赫兹辐射源 | 第31-46页 |
| 1.3.1 发展状况 | 第31-33页 |
| 1.3.2 辐射源器件物理 | 第33-39页 |
| 1.3.2.1 器件伏安特性与辐射特性 | 第33-35页 |
| 1.3.2.2 高偏热区 | 第35-38页 |
| 1.3.2.3 电磁驻波 | 第38-39页 |
| 1.3.2.4 热表现 | 第39页 |
| 1.3.3 辐射源器件结构 | 第39-43页 |
| 1.3.3.1 谐振结构 | 第39-40页 |
| 1.3.3.2 环境结构 | 第40-42页 |
| 1.3.3.3 电极结构 | 第42-43页 |
| 1.3.4 辐射源器件应用 | 第43-45页 |
| 1.3.4.1 太赫兹成像 | 第43-45页 |
| 1.3.4.2 材料检测 | 第45页 |
| 1.3.5 待解决问题和发展方向 | 第45-46页 |
| 第二章 实验方法 | 第46-70页 |
| 2.1 制备工艺 | 第46-50页 |
| 2.1.1 BSCCO单晶 | 第47页 |
| 2.1.2 一般制备过程 | 第47-49页 |
| 2.1.3 制备设备 | 第49-50页 |
| 2.2 低温设备 | 第50-55页 |
| 2.2.1 氦流恒温器 | 第51-53页 |
| 2.2.2 制冷机 | 第53-55页 |
| 2.3 器件特性测试 | 第55-59页 |
| 2.3.1 LabVIEW程序 | 第56页 |
| 2.3.2 伏安特性 | 第56-57页 |
| 2.3.3 功率检测 | 第57-58页 |
| 2.3.4 频率干涉仪 | 第58-59页 |
| 2.4 微型低温扫描激光显微镜 | 第59-69页 |
| 2.4.1 辐射测试系统 | 第60-61页 |
| 2.4.2 光学系统 | 第61-65页 |
| 2.4.3 位移系统 | 第65-69页 |
| 2.5 总结 | 第69-70页 |
| 第三章 太赫兹辐射与驻波 | 第70-76页 |
| 3.1 器件辐射特性 | 第70-72页 |
| 3.1.1 30K时辐射特性 | 第70-71页 |
| 3.1.2 辐射特性与浴温关系 | 第71-72页 |
| 3.2 驻波模式 | 第72-73页 |
| 3.3 辐射峰与驻波关系 | 第73-75页 |
| 3.4 总结 | 第75-76页 |
| 第四章 "三端-独立"超导太赫兹辐射源 | 第76-86页 |
| 4.1 器件结构 | 第76-79页 |
| 4.1.1 结构特点 | 第76-77页 |
| 4.1.2 制备细节 | 第77-79页 |
| 4.2 器件工作方式 | 第79-80页 |
| 4.2.1 电极定义 | 第79页 |
| 4.2.2 偏置策略 | 第79-80页 |
| 4.3 热区调控 | 第80-83页 |
| 4.4 辐射调控 | 第83-85页 |
| 4.5 总结 | 第85-86页 |
| 第五章 激光调控 | 第86-99页 |
| 5.1 器件特性 | 第86-91页 |
| 5.1.1 伏安特性与辐射特性 | 第87-88页 |
| 5.1.2 热区特性 | 第88-90页 |
| 5.1.3 辐射特性与温度关系 | 第90-91页 |
| 5.2 调控方式 | 第91页 |
| 5.3 调控效果 | 第91-94页 |
| 5.3.1 调控效果与激光位置关系 | 第92页 |
| 5.3.2 调控效果与偏置电流关系 | 第92-93页 |
| 5.3.3 调控效果与激光功率关系 | 第93-94页 |
| 5.4 调控机理 | 第94-98页 |
| 5.4.1 激光激励致器件电压变化 | 第94-95页 |
| 5.4.2 辐射功率、器件电压与浴温关系 | 第95-97页 |
| 5.4.3 激励位置与热区关系 | 第97-98页 |
| 5.5 总结 | 第98-99页 |
| 结论 | 第99-100页 |
| 博士期间发表论文 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
| 参考文献 | 第103-118页 |
