基于线阵CCD的平台位置控制
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6页 |
第1章 绪论 | 第9-15页 |
1.1 平台位置控制的发展状况 | 第9-12页 |
1.1.1 国外稳定平台的发展状况 | 第9-11页 |
1.1.2 国内稳定平台的发展状况 | 第11-12页 |
1.2 稳定平台的实现方法 | 第12-13页 |
1.3 平台位置控制研究的意义和研究内容 | 第13-15页 |
1.3.1 研究意义 | 第14页 |
1.3.2 本文研究内容和章节安排 | 第14-15页 |
第2章 系统工作原理和测量光路 | 第15-25页 |
2.1 系统工作原理 | 第15页 |
2.2 光路测量原理 | 第15-17页 |
2.3 测量光路元件 | 第17-18页 |
2.3.1 光源 | 第17-18页 |
2.3.2 镜片 | 第18页 |
2.4 线阵CCD | 第18-21页 |
2.5 机械结构 | 第21-22页 |
2.6 本章小结 | 第22-25页 |
第3章 信号采集 | 第25-31页 |
3.1 滤波处理 | 第25-27页 |
3.1.1 线阵CCD输出信号分析 | 第25-26页 |
3.1.2 滤波方案 | 第26-27页 |
3.2 信号采样 | 第27-29页 |
3.2.1 采样频率 | 第27-28页 |
3.2.2 数据采集卡的采样控制 | 第28-29页 |
3.3 本章小结 | 第29-31页 |
第4章 数据处理与反馈调节 | 第31-45页 |
4.1 信号分析 | 第31-33页 |
4.2 数据处理方法 | 第33-39页 |
4.2.1 阈值法 | 第33-35页 |
4.2.2 数据周期的完整性 | 第35-36页 |
4.2.3 重心法与取平均 | 第36-37页 |
4.2.4 相关性分析法 | 第37-39页 |
4.3 反馈调节 | 第39-42页 |
4.3.1 调节原理 | 第40页 |
4.3.2 压电陶瓷 | 第40-42页 |
4.4 程序设计 | 第42-44页 |
4.5 本章小结 | 第44-45页 |
第5章 平台测试与误差分析 | 第45-49页 |
5.1 测量方法和结果 | 第45-47页 |
5.2 误差分析 | 第47-48页 |
5.3 响应时间测量 | 第48页 |
5.4 本章小结 | 第48-49页 |
第6章 总结与展望 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-55页 |
致谢 | 第55-57页 |
已发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第57页 |