| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1.绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 课题背景 | 第9页 |
| 1.2 脱合金法制备纳米多孔金属材料的研究进展 | 第9-15页 |
| 1.2.1 纳米多孔金属材料 | 第10页 |
| 1.2.2 脱合金法制备纳米多孔金属的机理 | 第10-13页 |
| 1.2.3 脱合金法制备纳米多孔金属材料的现状 | 第13-15页 |
| 1.3 纳米多孔金属材料的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.1 过滤和分离领域 | 第15页 |
| 1.3.2 催化领域 | 第15页 |
| 1.3.3 新能源领域 | 第15-16页 |
| 1.4 半导体的光催化性能 | 第16-18页 |
| 1.4.1 半导体的光催化机理 | 第16-17页 |
| 1.4.2 提高半导体光催化效率的方法 | 第17-18页 |
| 1.5 纳米氧化亚铜光催化性能的研究进展 | 第18-20页 |
| 1.5.1 氧化亚铜的结构与基本性质 | 第18-19页 |
| 1.5.2 氧化亚铜纳米线的制备方法 | 第19页 |
| 1.5.3 纳米氧化亚铜的光催化研究现状 | 第19-20页 |
| 1.6 课题的研究内容 | 第20-22页 |
| 2 实验方案设计与研究方法 | 第22-27页 |
| 2.1 实验原料及试剂 | 第22页 |
| 2.2 实验仪器与设备 | 第22-23页 |
| 2.3 实验流程 | 第23页 |
| 2.4 实验方法 | 第23-25页 |
| 2.4.1 钛铜基非晶条带的制备 | 第23-24页 |
| 2.4.2 脱合金样品的制备及Cu_2O纳米线的制备 | 第24页 |
| 2.4.3 Cu_2O纳米线的制备 | 第24页 |
| 2.4.4 NPCu@Cu_2O的光催化降解实验 | 第24-25页 |
| 2.5 材料的物性表征 | 第25-27页 |
| 2.5.1 X射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| 2.5.2 差示扫描量热仪(DSC) | 第26页 |
| 2.5.3 扫描电子显微镜及能谱分析(SEM-EDS) | 第26页 |
| 2.5.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第26页 |
| 2.5.5 紫外可见分光光度计 | 第26-27页 |
| 3 脱合金法制备纳米多孔铜及其工艺研究 | 第27-38页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第27-36页 |
| 3.2.1 Ti_(40.6)Zr_(9.4)Cu_(40.6)Ni_(6.3)Sn_(3.1)条带的结构与热稳定性 | 第27-28页 |
| 3.2.2 脱合金Ti-Zr-Cu-Ni-Sn条带的结构分析 | 第28-29页 |
| 3.2.3 脱合金时间和温度对纳米多孔结构形貌及成分影响 | 第29-33页 |
| 3.2.4 脱合金溶液浓度对纳米多孔结构的形貌及成分影响 | 第33-35页 |
| 3.2.5 表面扩散系数的计算 | 第35-36页 |
| 3.3 非晶合金脱合金机理的探讨 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 4 Cu_2O纳米线的制备及其表征 | 第38-46页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第38-44页 |
| 4.2.1 NPCu@Cu_2O的物相结构 | 第38-41页 |
| 4.2.2 浸泡时间对Cu_2O的影响 | 第41-43页 |
| 4.2.3 浸泡温度对Cu_2O的影响 | 第43-44页 |
| 4.3 Cu_2O纳米线的生长机理 | 第44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 5 NPCu@Cu_2O光催化降解有机染料的研究 | 第46-55页 |
| 5.1 引言 | 第46页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第46-53页 |
| 5.2.1 Cu_2O的含量对光催化性能的影响 | 第46-49页 |
| 5.2.2 NPCu@Cu_2O样品的添加量对光催化性能的影响 | 第49-51页 |
| 5.2.3 光照时间对光催化性能的影响 | 第51-53页 |
| 5.3 NPCu@Cu_2O光催化降解机理 | 第53页 |
| 5.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 6 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 附录 | 第63页 |
