还原氧化石墨烯平面片上电极及超级电容研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第10页 |
| 1.2 石墨烯概述 | 第10-11页 |
| 1.3 石墨烯薄膜的制备 | 第11-14页 |
| 1.3.1 机械剥离法 | 第11-12页 |
| 1.3.2 SiC外延生长法 | 第12页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法 | 第12-13页 |
| 1.3.4 氧化石墨还原法 | 第13-14页 |
| 1.4 平面超级电容器研究进展 | 第14-17页 |
| 1.4.1 平面超级电容器 | 第14-15页 |
| 1.4.2 石墨烯平面超级电容器的研究进展 | 第15-17页 |
| 1.5 课题研究意义和主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 平面超级电容器的实验基础 | 第19-29页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第19-20页 |
| 2.2 平面片上电极制备工艺 | 第20-24页 |
| 2.2.1 改进Hummers法 | 第20页 |
| 2.2.2 层层交替旋涂工艺 | 第20-23页 |
| 2.2.3 HI酸低温还原工艺 | 第23-24页 |
| 2.3 表征方法及设备 | 第24-26页 |
| 2.4 活性炭电极的循环伏安特性 | 第26-28页 |
| 2.4.1 活性炭电极的制备 | 第26-27页 |
| 2.4.2 循环伏安测试 | 第27-28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 还原氧化石墨烯平面片上电极的制备 | 第29-33页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 改进Hummers法制备氧化石墨烯 | 第29-30页 |
| 3.3 层层交替旋涂法制备氧化石墨烯薄膜 | 第30-31页 |
| 3.4 HI酸还原法制备还原氧化石墨烯电极 | 第31-32页 |
| 3.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 还原氧化石墨烯平面片上电极的表征 | 第33-44页 |
| 4.1 引言 | 第33页 |
| 4.2 材料表征 | 第33-37页 |
| 4.2.1 XRD分析 | 第33-35页 |
| 4.2.2 XPS分析 | 第35-37页 |
| 4.3 氧化石墨烯浓度对平面片上电极的影响 | 第37-40页 |
| 4.4 旋涂次数对平面片上电极的影响 | 第40-42页 |
| 4.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第5章 全固态平面超级电容器制备与测试 | 第44-51页 |
| 5.1 引言 | 第44页 |
| 5.2 平面超级电容器的制备 | 第44-47页 |
| 5.2.1 集电极的制备 | 第44-45页 |
| 5.2.2 凝胶电解质的制备 | 第45页 |
| 5.2.3 全固态平面超级电容器的制备 | 第45-47页 |
| 5.3 平面超级电容器的测试 | 第47-50页 |
| 5.3.1 循环伏安特性 | 第47-48页 |
| 5.3.2 平面超级电容器的比电容与能量密度 | 第48-50页 |
| 5.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
