摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章 前言 | 第10-12页 |
·课题研究的背景与意义 | 第10-11页 |
·选题的依据及主要研究内容 | 第11-12页 |
第二章 文献综述 | 第12-25页 |
·合成气甲烷化反应及影响因素 | 第12-13页 |
·甲烷化工艺发展现状 | 第13-16页 |
·鲁奇工艺 | 第13页 |
·托普索 TPEMP 甲烷化工艺 | 第13-14页 |
·戴维工艺 | 第14-15页 |
·其他甲烷化工艺 | 第15-16页 |
·合成气甲烷化催化剂 | 第16-21页 |
·活性组分 | 第16页 |
·助剂 | 第16-17页 |
·载体 | 第17-18页 |
·制备条件 | 第18-20页 |
·国内外甲烷化催化剂研究现状 | 第20-21页 |
·CO 甲烷化反应机理及动力学 | 第21-22页 |
·CO 甲烷化反应机理 | 第21页 |
·动力学模型 | 第21-22页 |
·催化剂失活 | 第22-25页 |
第三章 实验部分 | 第25-32页 |
·实验原料与仪器 | 第25-26页 |
·催化剂制备方法 | 第26-27页 |
·等体积浸渍法 | 第26-27页 |
·共沉淀法(酸碱滴定法) | 第27页 |
·水热法 | 第27页 |
·水热-共沉淀复合法 | 第27页 |
·催化剂活性的评价 | 第27-30页 |
·反应气体 | 第27页 |
·反应装置 | 第27-29页 |
·相关数据的处理 | 第29-30页 |
·催化剂表征方法 | 第30-32页 |
·比表面积与孔结构的测定(BET) | 第30页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第30页 |
·H2-TPR 测试 | 第30页 |
·TPO-TPR | 第30-31页 |
·透射电镜分析(TEM) | 第31页 |
·反应积碳分析 | 第31-32页 |
第四章 Ni 基催化剂甲烷化活性的研究 | 第32-47页 |
·引言 | 第32页 |
·制备方法对甲烷化催化剂性能的影响 | 第32-37页 |
·催化剂的制备 | 第32-33页 |
·制备方法对催化剂甲烷化性能的影响 | 第33-34页 |
·催化剂的表征 | 第34-37页 |
·Ni 含量对催化剂活性的影响 | 第37-38页 |
·Mg 助剂对 Ni/Al2O3甲烷化性能的影响 | 第38-41页 |
·助剂 Mg 的添加 | 第38-39页 |
·催化剂的表征 | 第39-41页 |
·水热温度及时间对甲烷化催化剂活性的影响 | 第41-42页 |
·水热温度 | 第41-42页 |
·水热时间 | 第42页 |
·操作条件对甲烷化催化剂性能的影响 | 第42-44页 |
·空速 | 第42-43页 |
·压力 | 第43-44页 |
·自制催化剂与商业催化剂的性能比较 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
第五章 中温焙烧与还原对 Ni-Mg/Al2O3催化剂的影响 | 第47-58页 |
·引言 | 第47页 |
·焙烧温度的影响 | 第47-52页 |
·焙烧温度对催化剂性能的影响 | 第48-49页 |
·BET 分析 | 第49-50页 |
·H2-TPR 分析 | 第50-51页 |
·XRD 分析 | 第51-52页 |
·烧碳后的 H2-TPR 分析 | 第52页 |
·还原温度的影响 | 第52-57页 |
·还原温度对催化剂性能的影响 | 第53-54页 |
·XRD 分析 | 第54-55页 |
·TEM 分析 | 第55页 |
·BET 分析 | 第55-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第六章 高温还原对 Ni-Mg/Al2O3催化剂的影响 | 第58-69页 |
·引言 | 第58页 |
·还原温度的影响 | 第58-63页 |
·还原温度对催化剂性能及结构的影响 | 第58-59页 |
·XRD 及 H2-TPR 分析 | 第59-61页 |
·TEM 分析 | 第61-62页 |
·BET 分析 | 第62-63页 |
·烧碳后的 H2-TPR 分析 | 第63页 |
·焙烧温度对催化剂性能及结构的影响 | 第63-67页 |
·焙烧温度对催化剂性能的影响 | 第64-65页 |
·XRD 分析 | 第65页 |
·BET 分析 | 第65-67页 |
·烧炭后的 H2-TPR 分析 | 第67页 |
·本章小结 | 第67-69页 |
第七章 结论与展望 | 第69-71页 |
·结论 | 第69-70页 |
·展望 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
个人简历及在学校期间发表的学术论文及研究成果 | 第77页 |