| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·黒硅材料的研究背景及现状 | 第10-11页 |
| ·目前黒硅的制备方法 | 第11-15页 |
| ·飞秒激光法制备黒硅 | 第11-13页 |
| ·反应粒子刻蚀法制备黒硅 | 第13-14页 |
| ·湿法腐蚀制备黒硅 | 第14-15页 |
| ·黒硅对光吸收的增强 | 第15-18页 |
| ·黒硅的应用 | 第18-23页 |
| ·黒硅在光电二极管上的应用 | 第19-20页 |
| ·黒硅在光探测器上的应用 | 第20-21页 |
| ·黒硅在太阳能电池上的应用 | 第21-22页 |
| ·黒硅在场发射器上的应用 | 第22页 |
| ·黒硅在冷致发光上的应用 | 第22-23页 |
| ·本课题的内容及意义 | 第23-25页 |
| 第二章 纯化学刻蚀与电化学法刻蚀黒硅 | 第25-32页 |
| ·纯化学刻蚀制备黒硅 | 第25-28页 |
| ·酸刻蚀制备黒硅 | 第25-26页 |
| ·碱刻蚀制备黒硅 | 第26-27页 |
| ·酸碱刻蚀制备黒硅 | 第27-28页 |
| ·电化学刻蚀 | 第28-29页 |
| ·黒硅的 Te 掺杂 | 第29页 |
| ·退火工艺的研究 | 第29-30页 |
| ·电极的制备工艺研究 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 黒硅材料与器件的制备工艺研究 | 第32-42页 |
| ·纯化学制备方案 | 第32-35页 |
| ·酸法腐蚀实验方案 | 第32-34页 |
| ·碱法腐蚀黒硅的方法步骤 | 第34-35页 |
| ·电化学制备方案 | 第35-36页 |
| ·黒硅的掺杂 | 第36页 |
| ·电极制备方案 | 第36-41页 |
| ·电极掩膜 | 第37-38页 |
| ·真空蒸发法制备电极 | 第38-39页 |
| ·磁控溅射法制备电极 | 第39-40页 |
| ·电极的退火方案 | 第40-41页 |
| ·形貌及光电性能测试方案 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 纯化学与电化学法制备的黒硅表面特性及光性能研究 | 第42-64页 |
| ·纯化学与电化学制备的黒硅表面特性研究 | 第42-49页 |
| ·酸法腐蚀制备的黒硅表面特性 | 第42-44页 |
| ·碱法腐蚀制备的黒硅表面特性 | 第44-46页 |
| ·酸腐蚀和碱腐蚀结合制备的黒硅的表面特性 | 第46-47页 |
| ·电化学制备的黒硅表面特性 | 第47-49页 |
| ·黒硅的光学性能研究 | 第49-59页 |
| ·测试数据可行性验证 | 第49-51页 |
| ·酸法腐蚀制备的黒硅的光学特性 | 第51-53页 |
| ·碱法腐蚀制备黒硅的光学特性 | 第53-55页 |
| ·电化学制备黒硅的光特性 | 第55-57页 |
| ·掺杂 Te 后黒硅的光特性 | 第57-59页 |
| ·黒硅的光电性能研究 | 第59-63页 |
| ·退火对 I-V 曲线的影响 | 第59-60页 |
| ·MSM 结构和 N+/N 结构的器件 I-V 曲线 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-67页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |