带状电子光学系统的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·太赫兹技术介绍 | 第10-11页 |
| ·带状电子枪的研究进展 | 第11-14页 |
| ·本文研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 带状注电子枪设计基础及其理论 | 第16-30页 |
| ·电子枪的基本知识 | 第16-19页 |
| ·皮尔斯电子枪 | 第16-17页 |
| ·电场对金属热发射的影响 | 第17-19页 |
| ·空间电荷效应 | 第19-20页 |
| ·概述 | 第19页 |
| ·导流系数 | 第19-20页 |
| ·带状注电子枪设计基本理论 | 第20-24页 |
| ·带状电子注运动理论 | 第24-29页 |
| ·带状电子注的外形 | 第24-26页 |
| ·电子的轨迹方程及其求解 | 第26-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 带状注电子枪仿真模拟 | 第30-51页 |
| ·脉冲发射带状注电子枪设计 | 第30-32页 |
| ·带状电子光学结构的选取 | 第32-36页 |
| ·阴极面的选取 | 第33-35页 |
| ·聚焦极的选取 | 第35-36页 |
| ·结构尺寸及其磁场位置对电子注的影响 | 第36-44页 |
| ·带状注电子枪的设计 | 第44-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 带状电子注聚焦磁场研究 | 第51-59页 |
| ·带状电子注的 Diocotron 的不稳定性 | 第51-52页 |
| ·Wiggler 磁场聚焦结构分析 | 第52-55页 |
| ·Wiggler 场分析 | 第53-54页 |
| ·Wiggler 磁场聚焦带状注机理 | 第54-55页 |
| ·Wiggler 磁场聚焦系统初步设计 | 第55-58页 |
| ·Wiggler 结构尺寸对场的影响 | 第56-57页 |
| ·Wiggler 磁聚焦系统的三维仿真 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 加工与测试 | 第59-73页 |
| ·带状注电子枪加工 | 第59-62页 |
| ·连续式带状注电子枪加工步骤 | 第59-61页 |
| ·带状电子枪的实验加工 | 第61-62页 |
| ·实验测试概述 | 第62-66页 |
| ·测试内容 | 第63页 |
| ·测试方案 | 第63-65页 |
| ·老炼方案 | 第64-65页 |
| ·流通测试方案 | 第65页 |
| ·实验步骤 | 第65-66页 |
| ·实验结果分析 | 第66-72页 |
| ·实验样管进行老练测试 | 第66-67页 |
| ·实验样管进行流通测试 | 第67-72页 |
| ·测试结论 | 第72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 总结 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
