基于纳米压印技术的高线密度光栅研究

中文摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
第一章 绪论	第9-20页
·引言	第9-11页
·高线密度光栅的制备方法	第11-15页
·全息光刻技术	第11-12页
·电子束光刻技术	第12页
·极紫外光刻技术	第12-13页
·X 射线光刻技术	第13页
·聚焦离子束光刻技术	第13页
·纳米压印技术	第13-15页
·国内外研究现状	第15-18页
·本论文主要工作	第18-20页
第二章 高线密度光栅的结构设计	第20-30页
·引言	第20-21页
·严格耦合波理论分析	第21-26页
·高线密度光栅的衍射效率模拟结果	第26-29页
·本章小结	第29-30页
第三章 基于纳米压印技术制备光栅图案	第30-45页
·纳米压印技术概述	第30-33页
·紫外光固化纳米压印双层胶结构工艺	第33-34页
·紫外纳米压印实验过程	第34-39页
·模板防粘处理	第34-35页
·紫外光固化纳米压印	第35-39页
·等离子体刻蚀工艺	第39-44页
·本章小结	第44-45页
第四章 金属光栅的制备	第45-53页
·引言	第45页
·微电镀工艺	第45-46页
·微电镀工艺制备金光栅	第46-48页
·紫外光刻制备支撑结构	第48-51页
·衬底腐蚀	第51-52页
·本章小结	第52-53页
第五章 总结与展望	第53-55页
·全文总结	第53页
·今后工作展望	第53-55页
参考文献	第55-60页
攻读学位期间公开发表的论文	第60-61页
致谢	第61-62页
附录	第62-65页