二氧化钒薄膜的制备及其在太赫兹器件中的应用
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·二氧化钒特性及其研究现状 | 第9-12页 |
| ·太赫兹的特性及应用 | 第12-13页 |
| ·课题来源及论文内容 | 第13-14页 |
| ·课题来源 | 第13页 |
| ·论文内容 | 第13-14页 |
| 第二章 二氧化钒薄膜制备及分析方法 | 第14-25页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第14页 |
| ·溅射法 | 第14-15页 |
| ·反应蒸镀技术 | 第15页 |
| ·化学气相沉积 | 第15-16页 |
| ·脉冲激光烧蚀技术 | 第16页 |
| ·磁控溅射法制备二氧化钒薄膜 | 第16-18页 |
| ·工作原理 | 第16-17页 |
| ·实验操作 | 第17-18页 |
| ·二氧化钒薄膜的性能分析方法 | 第18-25页 |
| ·X射线衍射分析 | 第19页 |
| ·二氧化钒薄膜电学性质 | 第19-22页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第22页 |
| ·太赫兹时域光谱测试系统 | 第22-25页 |
| 第三章 二氧化钒薄膜性能研究 | 第25-39页 |
| ·氧分压对二氧化钒薄膜性能的影响 | 第25-31页 |
| ·电性能 | 第25-28页 |
| ·表面形貌 | 第28-29页 |
| ·薄膜结构 | 第29-31页 |
| ·溅射功率对二氧化钒薄膜影响 | 第31-37页 |
| ·电性能 | 第31-33页 |
| ·表面形貌 | 第33-36页 |
| ·薄膜结构 | 第36-37页 |
| ·溅射温度二氧化钒薄膜的影响 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 基于二氧化钒薄膜的太赫兹器件研究 | 第39-55页 |
| ·电磁超材料 | 第39-42页 |
| ·电磁超材料简介 | 第39页 |
| ·超材料吸收器的结构及工作原理 | 第39-42页 |
| ·基于二氧化钒薄膜的太赫兹器件 | 第42-54页 |
| ·太赫兹吸收器 | 第45-49页 |
| ·太赫兹调制器 | 第49-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第60页 |
