| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 综述 | 第9-36页 |
| ·铁电材料及其基本性质 | 第9-18页 |
| ·铁电材料的基本概念 | 第9-10页 |
| ·铁电材料基本性质及其应用 | 第10-13页 |
| ·压电性质 | 第10-11页 |
| ·热释电性质 | 第11-12页 |
| ·电光效应 | 第12页 |
| ·尺寸效应 | 第12-13页 |
| ·铁电体的分类 | 第13-15页 |
| ·铁电薄膜材料在存储器中的应用与发展 | 第15-18页 |
| ·铁电随机存储器(FeRAM) | 第15-16页 |
| ·铁电场效应晶体管(FeFET) | 第16-17页 |
| ·铁电动态随机存储器(DRAM) | 第17-18页 |
| ·磁性材料及其应用 | 第18页 |
| ·多铁性材料的研究进展 | 第18-24页 |
| ·单相磁电材料 | 第20-22页 |
| ·磁电复合薄膜 | 第22-24页 |
| ·磁电耦合 | 第24页 |
| ·室温多铁材料 BiFeO_3的研究现状 | 第24-33页 |
| ·室温多铁材料 BiFeO_3的结构 | 第25-26页 |
| ·BiFeO_3的磁学性质 | 第26页 |
| ·BiFeO_3的铁电性质 | 第26-28页 |
| ·BiFeO_3的漏电问题 | 第28页 |
| ·铁电材料的主要导电机制 | 第28-31页 |
| ·BiFeO_3在自旋电子学中的应用 | 第31-32页 |
| ·尖晶石钙钛矿型铁磁/铁电复合结构的研究现状 | 第32-33页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第33-34页 |
| ·本论文的工作 | 第34-36页 |
| 第二章 样品的制备、结构表征与物性测量 | 第36-42页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第36页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第36-37页 |
| ·结构表征与物性测量 | 第37-42页 |
| ·表面形貌、结构与成份表征 | 第37-39页 |
| ·表面形貌测量仪(台阶仪) | 第37页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第37-39页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第39页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第39页 |
| ·物性测量 | 第39-40页 |
| ·物理性质测量系统(PPMS) | 第40页 |
| ·磁性测量系统(MPMS) | 第40页 |
| ·铁电测量仪(TF Analyzer 2000) | 第40-42页 |
| 第三章 多晶和外延 BiFeO_3薄膜的结构与性质 | 第42-65页 |
| ·多晶 BiFeO_3薄膜的结构、成份和磁电输运性质 | 第42-51页 |
| ·多晶 BiFeO_3薄膜的结构 | 第42-45页 |
| ·多晶 BiFeO_3薄膜的表面形貌和成份分析 | 第45-46页 |
| ·多晶 BiFeO_3薄膜的磁学性质 | 第46-47页 |
| ·多晶 BiFeO_3薄膜的铁电性质 | 第47-51页 |
| ·外延 BiFeO_3薄膜的结构、成份和磁电输运性质 | 第51-62页 |
| ·外延 BiFeO_3薄膜的结构 | 第51-56页 |
| ·外延 BiFeO_3薄膜的磁学性质 | 第56-57页 |
| ·外延 BiFeO_3薄膜的铁电性质 | 第57-62页 |
| ·多晶和外延 BiFeO_3薄膜中整流效应的比较 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第四章 Fe_3O_4/BiFeO_3外延异质结的结构与性质 | 第65-85页 |
| ·Fe_3O_4/BiFeO_3外延异质结的制备与结构表征 | 第65-71页 |
| ·外延 Fe_3O_4薄膜的结构表征 | 第66-68页 |
| ·Fe_3O_4/BiFeO_3外延异质结的结构表征 | 第68-71页 |
| ·Fe_3O_4/BiFeO_3外延异质结的磁学性质 | 第71-79页 |
| ·Fe_3O_4/BiFeO_3外延异质结的铁电性质 | 第79-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 第五章 结论 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-96页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第96-97页 |
| 致谢 | 第97页 |
