射频磁控溅射法制备TiO2和Al2O3薄膜的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-15页 |
| ·光学薄膜的简介 | 第12页 |
| ·TiO_2薄膜的概述及应用 | 第12-13页 |
| ·Al_2O_3薄膜的概述及应用 | 第13页 |
| ·本论文主要工作 | 第13-15页 |
| 第二章 TiO_2和Al_2O_3薄膜的制备 | 第15-17页 |
| ·TiO_2和Al_2O_3薄膜制备的常用方法 | 第15页 |
| ·TiO_2和Al_2O_3薄膜样品的制备过程 | 第15-17页 |
| ·实验装置和实验材料 | 第15-16页 |
| ·样品的预处理 | 第16-17页 |
| 第三章 工艺参数对TiO_2薄膜的影响 | 第17-39页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜的影响 | 第17-23页 |
| ·不同溅射功率下TiO_2薄膜的结构 | 第17-20页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜光学性能的影响 | 第20-23页 |
| ·不同负偏压下的TiO_2薄膜 | 第23-27页 |
| ·负偏压对TiO_2薄膜结构的影响 | 第23-25页 |
| ·不同负偏压下TiO_2薄膜的光学性能 | 第25-27页 |
| ·不同工作气压下的TiO_2薄膜 | 第27-32页 |
| ·工作气压对TiO_2薄膜结构的影响 | 第28-30页 |
| ·不同工作气压下TiO_2薄膜的光学性能 | 第30-32页 |
| ·Ar流量对TiO_2薄膜的影响 | 第32-38页 |
| ·不同Ar流量下TiO_2薄膜的结构 | 第33-35页 |
| ·Ar流量对TiO_2薄膜光学性能的影响 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 ：溅射沉积Al_2O_3薄膜的研究 | 第39-56页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜的影响 | 第39-43页 |
| ·不同溅射功率下Al_2O_3薄膜的结构 | 第39-40页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜光学性能的影响 | 第40-43页 |
| ·负偏压对Al_2O_3薄膜的影响 | 第43-46页 |
| ·不同负偏压下Al_2O_3薄膜的结构 | 第43-44页 |
| ·负偏压对Al_2O_3薄膜光学性能的影响 | 第44-46页 |
| ·工作气压对Al_2O_3薄膜的影响 | 第46-50页 |
| ·不同工作气压下Al_2O_3薄膜的结构 | 第47-48页 |
| ·工作气压对Al_2O_3薄膜光学性能的影响 | 第48-50页 |
| ·氧氩流量比对Al_2O_3薄膜的影响 | 第50-54页 |
| ·不同氧氩流量比下Al_2O_3薄膜的结构 | 第51-52页 |
| ·氧氩流量比对Al_2O_3薄膜光学性能的影响 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第63-65页 |
| 硕士在读期间获得的奖励 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
