| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·高精度平面的应用 | 第9-10页 |
| ·惯性约束聚变(ICF)对高精度光学元件加工的要求 | 第10-14页 |
| ·本论文主要工作 | 第14-15页 |
| 第二章 环形抛光技术 | 第15-29页 |
| ·高精度抛光的材料去除机理 | 第15-16页 |
| ·高精度抛光技术的概述 | 第16-22页 |
| ·高精度抛光技术的发展 | 第16-17页 |
| ·传统抛光技术 | 第17页 |
| ·改进的传统抛光技术 | 第17-19页 |
| ·新原理加工方法 | 第19-21页 |
| ·我国的高精度表面加工技术的现状 | 第21-22页 |
| ·环形抛光原理 | 第22-27页 |
| ·概述 | 第22页 |
| ·分离器概述 | 第22-23页 |
| ·分离器的分类 | 第23-25页 |
| ·环形抛光工艺 | 第25-26页 |
| ·环抛工艺原理及结构 | 第26页 |
| ·环形抛光技术存在的问题 | 第26-27页 |
| ·环形抛光技术的研究目的和难点 | 第27-29页 |
| 第三章 磨削量理论及模型 | 第29-43页 |
| ·国内外环形抛光及磨削量问题研究情况 | 第29-32页 |
| ·磨削量模型 | 第32-34页 |
| ·抛光过程磨削量分析 | 第32页 |
| ·假设 | 第32-33页 |
| ·相对运动分析 | 第33页 |
| ·相对磨削量 | 第33-34页 |
| ·磨削量规律 | 第34-35页 |
| ·参数确定 | 第34页 |
| ·磨削量分布规律 | 第34-35页 |
| ·压强对磨削量的影响 | 第35-38页 |
| ·压强均匀分布的情况 | 第36-37页 |
| ·存在压强梯度的情况 | 第37-38页 |
| ·速度对磨削量的影响 | 第38-40页 |
| ·参数设定 | 第38页 |
| ·转速比对磨削量的影响 | 第38-39页 |
| ·转速比对相对磨削量的影响 | 第39-40页 |
| ·偏心距对磨削量的影响 | 第40-42页 |
| ·参数设定 | 第40-41页 |
| ·偏心距对磨削均匀的影响 | 第41页 |
| ·偏心距与去除效率 | 第41-42页 |
| ·露边时的磨削量 | 第42-43页 |
| 第四章 抛光中的接触压力有限元分析 | 第43-53页 |
| ·抛光沥青 | 第43页 |
| ·弹性分析简化 | 第43-45页 |
| ·有限元分析原理和过程 | 第45-48页 |
| ·有限元分析原理 | 第45-46页 |
| ·分析过程 | 第46-48页 |
| ·分析结果 | 第48-53页 |
| ·不同偏心距时工件与抛光盘之间的接触压力 | 第48-51页 |
| ·不同偏心距下校正盘与抛光盘之间的接触压力 | 第51-52页 |
| ·校正盘和工件对抛光盘面形改变的影响 | 第52-53页 |
| 第五章 环形抛光工艺研究 | 第53-63页 |
| ·环抛工艺实验基础 | 第53页 |
| ·工艺因素分析 | 第53-56页 |
| ·材料的性质 | 第53页 |
| ·抛光磨层 | 第53-54页 |
| ·抛光粉 | 第54-55页 |
| ·抛光液 | 第55页 |
| ·加工环境及温度控制 | 第55-56页 |
| ·环形抛光工艺实验 | 第56-63页 |
| ·实验设备 | 第56-59页 |
| ·工件面形的检测 | 第59-60页 |
| ·检测结果 | 第60-63页 |
| 第六章 总结 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |