提要 | 第1-7页 |
第一章 绪论 | 第7-16页 |
·引言 | 第7页 |
·纳米材料简介 | 第7-9页 |
·纳米材料的物理性质 | 第8-9页 |
·模板合成法简介 | 第9页 |
·阳极氧化铝膜的结构 | 第9-11页 |
·阳极氧化铝膜的特点 | 第10-11页 |
·电沉积法制备纳米线阵列 | 第11-13页 |
·纳米线的表征方法 | 第13-14页 |
·本论文的创新性及研究意义 | 第14-16页 |
第二章 磁性物理学与磁性介质 | 第16-20页 |
·磁记录介质应具有的性质 | 第16页 |
·磁各向异性 | 第16-17页 |
·磁各向异性的类型 | 第16页 |
·磁形状各向异性 | 第16-17页 |
·磁场或者应力热处理感生磁各向异性 | 第17页 |
·磁记录 | 第17-19页 |
·数字式记录 | 第17-19页 |
·垂直记录介质 | 第19页 |
·超导量子干涉仪 | 第19-20页 |
第三章 氧化铝纳米孔的制备 | 第20-32页 |
·引言 | 第20页 |
·多孔阳极氧化铝模板的制备方法 | 第20-24页 |
·实验装置 | 第20-21页 |
·铝片预处理 | 第21-22页 |
·阳极氧化 | 第22-23页 |
·氧化铝纳米孔的形成机理 | 第23-24页 |
·反应条件对产物的影响 | 第24-28页 |
·氧化次数对膜的影响 | 第24-25页 |
·氧化电压对孔洞直径的影响 | 第25-26页 |
·扩孔时间对模板的影响 | 第26-28页 |
·氧化膜的结构成份分析 | 第28-29页 |
·阳极氧化铝膜的退火 | 第29-30页 |
·本章小结 | 第30-32页 |
第四章 以AAO 膜为模板制备金属和金属合金纳米线 | 第32-47页 |
·引言 | 第32-33页 |
·模板的预处理 | 第33页 |
·实验装置 | 第33-34页 |
·Ni 纳米线 | 第34-38页 |
·实验部分 | 第34页 |
·Ni 纳米线的SEM 测试 | 第34-35页 |
4 4.3 Ni 纳米线的XRD 表征 | 第35-36页 |
·Ni 纳米线的EDX 表征 | 第36-37页 |
·Ni 纳米线的磁性测试 | 第37-38页 |
·交流电沉积Ni 纳米线 | 第38页 |
·Cu 纳米线的沉积 | 第38-40页 |
·实验部分 | 第38页 |
·结果与讨论 | 第38-40页 |
·Ni-Cu 纳米线的制备 | 第40-43页 |
·实验部分 | 第40页 |
·Ni-Cu 纳米线的SEM 测试 | 第40页 |
·Ni-Cu 纳米线的XRD 测试 | 第40-41页 |
·Ni-Cu 纳米线的EDX 测试 | 第41-42页 |
·Ni-Cu 纳米线的磁性测试 | 第42-43页 |
·Co-Cu 合金纳米线的制备 | 第43-44页 |
·Co-Pt 合金纳米线的制备 | 第44-45页 |
·实验部分 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
结论 | 第47-49页 |
参考文献 | 第49-53页 |
致谢 | 第53-54页 |
中文摘要 | 第54-56页 |
英文摘要 | 第56-57页 |