| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-7页 |
| 目 录 | 第7-11页 |
| 绪 论 | 第11-13页 |
| 第1章 X射线激光及等离子体电子密度诊断的进展 | 第13-24页 |
| 1．1 X射线激光的发展 | 第13-18页 |
| 1．1．1 电子碰撞激发机制 | 第13-16页 |
| 1．1．2 三体复合机制 | 第16-17页 |
| 1．1．3 其它机制 | 第17-18页 |
| 1．2 X射线激光应用进展 | 第18-19页 |
| 1．3 激光等离子体电子密度诊断研究 | 第19-24页 |
| 1．3．1 光谱学诊断方法 | 第19-21页 |
| 1．3．1．1 特征线谱相对强度比方法 | 第20页 |
| 1．3．1．2 斯塔克效应 | 第20-21页 |
| 1．3．2 激光探针诊断方法 | 第21-24页 |
| 1．3．2．1 激光探针干涉法 | 第21-22页 |
| 1．3．2．2 激光探针偏转法 | 第22-23页 |
| 1．3．2．3 激光探针阴影法 | 第23-24页 |
| 第2章 电子碰撞激发X射线激光基本原理 | 第24-38页 |
| 2．1 引言 | 第24页 |
| 2．2 类镍离子的电子碰撞激发 | 第24-27页 |
| 2．2．1 电子碰撞激发基本原理 | 第24-26页 |
| 2．2．2 类镍离子的电子碰撞激发 | 第26-27页 |
| 2．3 X射线激光在等离子体中的传播 | 第27-29页 |
| 2．3．1 光线方程 | 第27页 |
| 2．3．2 数值模拟方法 | 第27-29页 |
| 2．3．2．1 爆炸薄膜靶 | 第28-29页 |
| 2．3．2．2 平面厚靶 | 第29页 |
| 2．4 X射线激光实验的一些问题 | 第29-31页 |
| 2．4．1 预主脉冲泵浦 | 第30页 |
| 2．4．2 线聚焦系统 | 第30-31页 |
| 2．4．3 双靶对接系统 | 第31页 |
| 2．5 探测系统 | 第31-34页 |
| 2．5．1 平焦场光栅谱仪 | 第31-32页 |
| 2．5．2 晶体谱仪 | 第32-33页 |
| 2．5．3 双狭缝相机 | 第33-34页 |
| 2．6 “神光Ⅱ”上进行X射线激光的实验方案 | 第34-37页 |
| 2．6．1 X射线激光实验方案 | 第34-35页 |
| 2．6．2 X射线激光增益系数测量 | 第35-36页 |
| 2．6．3 X射线激光的偏折角和发散角 | 第36页 |
| 2．6．4 估算出光总能量 | 第36-37页 |
| 2．6．5 相干性和脉冲宽度 | 第37页 |
| 2．7 小结 | 第37-38页 |
| 第3章 均匀线聚焦系统 | 第38-51页 |
| 3．1 线聚焦技术进展 | 第38-41页 |
| 3．1．1 单柱面透镜与非球面透镜系统 | 第38-39页 |
| 3．1．2 相对旋转负柱面透镜系统 | 第39页 |
| 3．1．3 离轴球面反射镜系统 | 第39-40页 |
| 3．1．4 柱面透镜列阵与非球面透镜系统 | 第40页 |
| 3．1．5 单柱面透镜与列阵光劈系统 | 第40-41页 |
| 3．2 柱面透镜列阵线聚焦系统原理 | 第41-43页 |
| 3．2．1 基本原理 | 第41-42页 |
| 3．2．2 不等宽单元列阵 | 第42-43页 |
| 3．2．3 多光束干涉与硬边衍射影响 | 第43页 |
| 3．3 “神光Ⅱ”特殊光束强度分布下的均匀线聚焦方案 | 第43-48页 |
| 3．3．1 “神光Ⅱ”光束强度分布及其对线聚焦的影响 | 第44-46页 |
| 3．3．2 柱面透镜阵列的改进设计 | 第46-47页 |
| 3．3．3 特殊的实验方案 | 第47-48页 |
| 3．4 可能改进的柱面透镜列阵系统 | 第48-50页 |
| 3．4．1 混合单元柱面透镜列阵 | 第48-49页 |
| 3．4．2 偏心单元柱面透镜列阵 | 第49页 |
| 3．4．3 准行波泵浦 | 第49-50页 |
| 3．5 小结 | 第50-51页 |
| 第4章 X射线激光作为探针探测激光等离子体电子密度 | 第51-80页 |
| 4．1 引言 | 第51页 |
| 4．2 X射线激光探针方法基本原理 | 第51-54页 |
| 4．2．1 激光探针方法测量等离子体电子密度信息 | 第52页 |
| 4．2．2 X射线激光用作探针光源 | 第52-54页 |
| 4．3 X射线激光应用于莫尔偏折法测量电子密度 | 第54-70页 |
| 4．3．1 摩尔偏折测量术基本原理 | 第54-59页 |
| 4．3．1．1 光栅自成像现象 | 第55-56页 |
| 4．3．1．2 摩尔条纹的产生 | 第56-58页 |
| 4．3．1．3 摩尔条纹测量光束偏折角 | 第58页 |
| 4．3．1．4 光束波面对摩尔条纹的影响 | 第58-59页 |
| 4．3．2 摩尔偏折仪设计 | 第59-62页 |
| 4．3．2．1 光栅的选择 | 第59-60页 |
| 4．3．2．2 双光栅匹配参数设计 | 第60-61页 |
| 4．3．2．3 偏折仪机械设计 | 第61页 |
| 4．3．2．4 偏折仪调节方法 | 第61-62页 |
| 4．3．3 莫尔偏折仪测量等离子体电子密度实验基本数据处理方法 | 第62-66页 |
| 4．3．3．1 打厚靶产生的近似一维膨胀的等离子体 | 第63-65页 |
| 4．3．3．2 打爆炸膜靶产生的近似径向对称膨胀的等离子体 | 第65-66页 |
| 4．3．4 摩尔偏折仪测量等离子体电子密度实验方案 | 第66-70页 |
| 4．3．4．1 实验设计的若干原则 | 第67页 |
| 4．3．4．2 实验的原理排布 | 第67-68页 |
| 4．3．4．3 “神光Ⅱ”X射线激光靶室中的实验光路排布 | 第68-69页 |
| 4．3．4．4 实验所需的元件说明 | 第69-70页 |
| 4．4 X射线激光应用于M-Z干涉法测量电子密度研究 | 第70-80页 |
| 4．4．1 M-Z干涉仪测量等离子体电子密度基本原理 | 第70-71页 |
| 4．4．2 M-Z干涉仪测量电子密度实验的基本数据处理方法 | 第71-74页 |
| 4．4．2．1 打厚靶产生的近似一维膨胀的等离子体 | 第71-73页 |
| 4．4．2．2 打爆炸膜靶产生的近似径向对称膨胀的等离子体 | 第73-74页 |
| 4．4．3 M-Z干涉仪测量等离子体电子密度实验方案 | 第74-75页 |
| 4．4．3．2 M-Z干涉仪实验的排布方案 | 第74-75页 |
| 4．5 X射线激光探针测量电子密度的其它途径 | 第75-78页 |
| 4．5．1 阴影、偏折方法 | 第75-76页 |
| 4．5．1．1 直接记录系统（阴影法） | 第75-76页 |
| 4．5．1．2 网格系统 | 第76页 |
| 4．5．2 干涉方法 | 第76-78页 |
| 4．5．2．1 M-Z干涉仪及其改进方案 | 第77页 |
| 4．5．2．2 其他干涉方案 | 第77-78页 |
| 4．6 小结 | 第78-80页 |
| 第5章 X射线激光及其应用演示实验与结果分析 | 第80-93页 |
| 5．1 实验综述 | 第80页 |
| 5．2 X射线激光出光实验 | 第80-82页 |
| 5．3 X射线激光应用演示 | 第82-86页 |
| 5．3．1 探针光源的强度 | 第83页 |
| 5．3．2 静态金属网成像 | 第83-84页 |
| 5．3．3 等离子体自发辐射成像 | 第84-85页 |
| 5．3．4 静态摩尔条纹 | 第85-86页 |
| 5．4 实验结果分析 | 第86-91页 |
| 5．4．1 线聚焦问题 | 第87页 |
| 5．4．2 靶的长短 | 第87页 |
| 5．4．3 滤片的使用 | 第87-89页 |
| 5．4．4 对接条件 | 第89-91页 |
| 5．5 今后实验的改进建议 | 第91-93页 |
| 第6章 总结 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-99页 |
| 致 谢 | 第99-100页 |
| 攻读硕士期间完成和发表的文章 | 第100-101页 |
| 简 历 | 第101页 |
