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降低高阻硅探测器漏电流的方法研究

第一章 概述第1-11页
 1.1 引言第8-9页
 1.2 PIN电流型探测器的发展第9页
 1.3 探测器的漏电流第9-11页
第二章 探测器的正反向电流特性第11-24页
 2.1 扩散电流第12-16页
 2.2 产生电流第16-18页
 2.3 表面漏电流第18-24页
第三章 保护环技术第24-58页
 3.1 引言第24-25页
 3.2 结构设计第25-29页
  3.2.1 硅片第25-28页
   3.2.1.1 灵敏区厚度第26-27页
   3.2.1.2 保护环沟槽第27-28页
  3.2.2 管壳第28-29页
 3.3 主要工艺设计第29-33页
  3.3.1 形成PIN结构第29-31页
  3.3.2 腐蚀沟槽第31-32页
  3.3.3 制备电极第32-33页
 3.4 工艺制作第33-48页
  3.4.1 工艺流程第33页
  3.4.2 机械加工第33-34页
  3.4.3 化学腐蚀第34-38页
  3.4.4 离子注入第38-42页
  3.4.5 光刻第42-45页
  3.4.6 封装第45-46页
  3.4.7 真空蒸发第46-47页
  3.4.8 初测第47-48页
 3.5 反向漏电流测量与结果分析第48-54页
 3.6 可靠性试验第54-58页
  3.6.1 存储试验第54-55页
  3.6.2 电老化试验第55-56页
  3.6.3 提高可靠性的措施第56-58页
第四章 降低探测器漏电流的其它方法第58-64页
 4.1 环氧封装技术第58-59页
 4.2 表面钝化技术第59-61页
 4.3 涂敷有机保护材料第61页
 4.4 特殊结构设计第61-62页
 4.5 其它方法第62-64页
结束语第64-66页
致谢第66-67页
参考文献第67-69页
附录A第69-74页
附录B第74-85页

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