磁控溅射制备氮化钛薄膜及其结构与导电性能的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·氮化钛薄膜(TiN_x)的结构与性能 | 第9-10页 |
| ·氮化钛薄膜的结构 | 第9-10页 |
| ·氮化钛薄膜的性能 | 第10页 |
| ·氮化钛薄膜的制备方法 | 第10-14页 |
| ·溅射镀膜法 | 第11页 |
| ·离子镀膜法 | 第11-12页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第12-13页 |
| ·其它沉积方法 | 第13-14页 |
| ·氮化钛薄膜研究现状 | 第14-19页 |
| ·氮化钛薄膜的色泽 | 第14-15页 |
| ·氮化钛薄膜机械性能与力学性能的研究 | 第15页 |
| ·氮化钛薄膜的光学性能 | 第15-16页 |
| ·氮化钛薄膜的电学性能 | 第16-17页 |
| ·氮化钛薄膜的一些最新研究 | 第17-19页 |
| ·本课题研究的内容及意义 | 第19-20页 |
| 第二章 磁控溅射技术制备TiN_x薄膜 | 第20-27页 |
| ·溅射镀膜的原理 | 第20-23页 |
| ·辉光放电的原理 | 第20-22页 |
| ·溅射的过程 | 第22-23页 |
| ·反应磁控溅射的原理 | 第23-27页 |
| ·磁控溅射 | 第23-25页 |
| ·反应溅射 | 第25-27页 |
| 第三章 氮化钛薄膜制备过程和结构性能测试 | 第27-31页 |
| ·制备氮化钛薄膜的设备和源材料 | 第27页 |
| ·氮化钛薄膜制备的实验过程 | 第27-28页 |
| ·基片的清洗 | 第27页 |
| ·氮化钛薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·氮化钛薄膜的结构与导电性能测试 | 第28-31页 |
| ·物相分析(X射线衍射) | 第28-29页 |
| ·表面形貌分析(原子力显微镜) | 第29页 |
| ·薄膜厚度测试(台阶仪) | 第29-30页 |
| ·电阻率测试(四探针测试仪) | 第30-31页 |
| 第四章 测量结果与讨论 | 第31-55页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜的结构与导电性能的影响 | 第31-37页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第31-32页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第32-35页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜厚度的影响 | 第35页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜电阻率的影响 | 第35-37页 |
| ·氮气流量对TiN_x薄膜的结构与导电性能影响 | 第37-43页 |
| ·氮气流量对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第37-38页 |
| ·氮气流量对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第38-41页 |
| ·氮气流量对TiN_x薄膜厚度的影响 | 第41-42页 |
| ·氮气流量对TiN_x薄膜电阻率的影响 | 第42-43页 |
| ·溅射总气压对TiN_x薄膜的结构与导电性能影响 | 第43-49页 |
| ·溅射总气压对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第43-44页 |
| ·溅射总气压对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第44-47页 |
| ·溅射总气压对TiN_x薄膜厚度的影响 | 第47-48页 |
| ·溅射总气压对TiN_x薄膜电阻率的影响 | 第48-49页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜结构与导电性能的影响 | 第49-55页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第49-50页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第50-53页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜厚度的影响 | 第53页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜电阻率的影响 | 第53-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第63页 |
