| 提要 | 第1-8页 |
| 前言 | 第8-33页 |
| 1 电有机合成简介 | 第8-11页 |
| ·有机电合成的发展 | 第8-9页 |
| ·有机电合成的特征 | 第9-11页 |
| 2 烟酸及烟酸铬的用途与合成方法 | 第11-19页 |
| ·烟酸及烟酸铬的用途 | 第11-13页 |
| ·烟酸的合成方法 | 第13-19页 |
| ·烟酸铬的合成方法 | 第19页 |
| 3 表面活性剂 | 第19-25页 |
| ·各类表面活性剂简介 | 第21-24页 |
| ·表面活性剂的临界胶束浓度 | 第24-25页 |
| 4 立题依据、研究内容和创新性 | 第25-27页 |
| ·立题依据和研究内容 | 第25-27页 |
| ·课题的创新性 | 第27页 |
| 参考文献 | 第27-33页 |
| 第一章 表面活性剂对3-甲基吡啶电氧化制取烟酸的影响 | 第33-58页 |
| ·实验部分 | 第34-38页 |
| ·试剂及仪器 | 第34-35页 |
| ·实验装置 | 第35-36页 |
| ·表面活性剂临界胶束浓度的测定 | 第36页 |
| ·循环伏安曲线的测定 | 第36页 |
| ·恒电位电解氧化实验 | 第36页 |
| ·3-甲基吡啶和烟酸的定量分析 | 第36-37页 |
| ·电流效率和选择性的计算 | 第37-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-48页 |
| ·临界胶束浓度的测定 | 第38-40页 |
| ·循环伏安曲线的测定 | 第40-48页 |
| ·添加不同表面活性剂的电解液体系恒电位电解 | 第48-50页 |
| ·反应机理及表面活性剂电催化机理的研究 | 第50-53页 |
| ·3-甲基吡啶和烟酸的定量分析 | 第53-56页 |
| ·3-甲基吡啶和烟酸电解液HPLC 分析 | 第53-55页 |
| ·电解液HPLC 分析 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第二章 由Span60 对3-甲基吡啶电氧化的影响探讨最佳实验条件 | 第58-69页 |
| ·实验部分 | 第58-60页 |
| ·试剂及仪器 | 第58-59页 |
| ·国产CM-001 质子交换膜的活化处理 | 第59页 |
| ·正交实验和强化实验 | 第59-60页 |
| ·3-甲基吡啶和烟酸的定量分析 | 第60页 |
| ·烟酸的分析、分离和表征 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-65页 |
| ·电解氧化正交实验 | 第60-64页 |
| ·强化实验 | 第64-65页 |
| ·3-甲基吡啶和烟酸的分析、分离和表征 | 第65-67页 |
| ·3-甲基吡啶和烟酸的定量分析 | 第65页 |
| ·产品的分析与表征 | 第65-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第三章 烟酸铬的合成 | 第69-78页 |
| ·实验部分 | 第69-71页 |
| ·试剂及仪器 | 第69-70页 |
| ·烟酸铬的制备 | 第70页 |
| ·直接电氧化法连续合成烟酸铬 | 第70-71页 |
| ·烟酸铬的定性分析 | 第71页 |
| ·结果与讨论 | 第71-75页 |
| ·pH 值对烟酸铬产率的影响 | 第71-72页 |
| ·温度对烟酸铬产率的影响 | 第72-73页 |
| ·反应时间对烟酸铬产率的影响 | 第73页 |
| ·反应物投料比对烟酸铬产率的影响 | 第73-74页 |
| ·硫酸浓度对烟酸铬产率的影响 | 第74-75页 |
| ·最佳条件下的烟酸铬的产率 | 第75页 |
| ·直接电氧化连续合成 | 第75页 |
| ·烟酸铬的定性分析 | 第75-77页 |
| ·红外光谱分析 | 第75-76页 |
| ·元素分析测定 | 第76-77页 |
| ·小结 | 第77页 |
| 参考文献 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间已发表和待发表论文 | 第78-79页 |
| 中文摘要 | 第79-83页 |
| 英文摘要 | 第83-88页 |
| 致谢 | 第88页 |