| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-24页 |
| ·半导体光催化分解水反应机理 | 第8-10页 |
| ·光催化分解水的基本途径 | 第10-13页 |
| ·光电化学池分解 | 第11页 |
| ·光助配合催化化学分解 | 第11-12页 |
| ·半导体光催化电化学分解 | 第12-13页 |
| ·光催化技术所面临的问题 | 第13-14页 |
| ·提高光催化性能的途径 | 第14-23页 |
| ·催化剂结构和组成的改变 | 第14-20页 |
| ·光催化过程与外场的耦合 | 第20-22页 |
| ·开发新型光催化剂 | 第22-23页 |
| ·本研究的意义与研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验部分 | 第24-30页 |
| ·试样制备工艺 | 第24页 |
| ·实验原料与设备 | 第24-26页 |
| ·试样表征方法 | 第26-27页 |
| ·分解及晶型转化温度的测定 | 第26页 |
| ·晶型结构的测定 | 第26页 |
| ·表面相貌测定 | 第26页 |
| ·吸光性能测试 | 第26页 |
| ·表面结构和化学态测试 | 第26-27页 |
| · | 第27-30页 |
| ·紫外光光催化活性评价 | 第27-28页 |
| ·可见光光催化活性评价 | 第28页 |
| ·气相色错分析 | 第28-30页 |
| 第三章 稀土(Y、Nd)掺杂对WO_3粉体光催化性能的影响 | 第30-48页 |
| ·掺杂WO_3光催化剂的制备 | 第31页 |
| ·光催化剂的表征 | 第31-39页 |
| ·XRD与 SEM分析 | 第31-35页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第35-38页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第38-39页 |
| ·光催化活性 | 第39-47页 |
| ·光催化剂用量对产氧量的影响 | 第39-40页 |
| ·受电子体对产氧量的影响 | 第40-41页 |
| ·反应体系酸度对产氧量的影响 | 第41-42页 |
| ·煅烧温度对催化剂催化活性的影响 | 第42-43页 |
| ·Y掺杂量对WO_3光催化活性的影响 | 第43-44页 |
| ·Nd掺杂量对WO_3光催化活性的影响 | 第44-46页 |
| ·光源对光催化活性的影响 | 第46页 |
| ·稀土离子掺杂WO_3的改性机理分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 共掺杂对WO_3粉体光催化活性的影响 | 第48-69页 |
| ·硫钇共掺杂的可见光WO_3催化剂 | 第48-54页 |
| ·光催化剂的制备 | 第48页 |
| ·光催化剂的表征与活性 | 第48-54页 |
| ·硫氮共掺杂的可见光WO_3催化剂 | 第54-61页 |
| ·光催化剂的制备 | 第54-55页 |
| ·光催化剂的表征与活性 | 第55-61页 |
| ·镧钇共掺杂的可见光WO_3催化剂 | 第61-68页 |
| ·光催化剂的制备 | 第61页 |
| ·光催化剂的表征与活性 | 第61-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第82页 |