| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·氮化钛的国内外研究现状和本课题的研究内容和拟解决的关键问题 | 第10-12页 |
| ·氮化钛的国内外研究现状 | 第10-11页 |
| ·本课题的研究内容 | 第11-12页 |
| ·氮化钛薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第12-13页 |
| ·物理气相沉积技术 | 第13-14页 |
| ·氮化钛薄膜的应用 | 第14-16页 |
| ·在仿金行业的应用 | 第14页 |
| ·在机械领域的应用 | 第14-15页 |
| ·在临床医学领域的应用 | 第15页 |
| ·其它方面的应用 | 第15-16页 |
| ·钛及其氮化物的防腐性能 | 第16-19页 |
| ·钛的防腐性 | 第16-17页 |
| ·氮化钛优异的化学稳定性 | 第17-19页 |
| 第二章 薄膜及其制备和防腐原理简介 | 第19-34页 |
| ·薄膜的生长原理 | 第19-22页 |
| ·薄膜生长及过程 | 第19-21页 |
| ·影响薄膜生长的因素 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射制备薄膜原理 | 第22-26页 |
| ·溅射机理和基本溅射类型 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射原理及基本类型 | 第23-26页 |
| ·腐蚀与防护机理 | 第26-34页 |
| ·腐蚀和金属腐蚀的概念及腐蚀的实质 | 第26-27页 |
| ·腐蚀的分类 | 第27-32页 |
| ·腐蚀的防护方法 | 第32-34页 |
| 第三章 磁控溅射制备氮化钛薄膜及膜性能评价 | 第34-47页 |
| ·薄膜制备前的准备 | 第34-38页 |
| ·基片前处理 | 第34页 |
| ·靶材的制备 | 第34-36页 |
| ·溅射率是制备复合靶的主要依据 | 第36-38页 |
| ·直流反应磁控溅射制备氮化钛薄膜 | 第38-40页 |
| ·氮化钛制备的实验设备、工艺流程及实验材料 | 第38-39页 |
| ·薄膜制备过程 | 第39页 |
| ·实验参数设计 | 第39-40页 |
| ·正交实验 | 第40-46页 |
| ·正交实验的设计 | 第41-42页 |
| ·正交实验的结果与讨论 | 第42-44页 |
| ·正交实验结果的原因分析 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 氮化钛薄膜的电化学试验 | 第47-60页 |
| ·电化学原理简介 | 第47-50页 |
| ·电化学分析定义和特点 | 第47-48页 |
| ·电化学分析法分类和应用 | 第48页 |
| ·极化曲线的相关理论 | 第48-49页 |
| ·塔法尔关系及塔菲尔斜率测量理论 | 第49-50页 |
| ·电化学表征实验 | 第50-51页 |
| ·电化学试验装置和过程 | 第50-51页 |
| ·电化学试验的内容 | 第51页 |
| ·氮化钛薄膜对基底耐腐蚀的改善 | 第51-54页 |
| ·氮化钛在NaCl介质中的极化曲线的测量 | 第51-52页 |
| ·氮化钛在H_2SO_4介质中极化曲线的测量 | 第52-54页 |
| ·制备条件对氮化钛防腐性能的影响 | 第54-57页 |
| ·氮流量对防腐性能的影响 | 第54-55页 |
| ·基体温度对防腐性能的影响 | 第55页 |
| ·功率对防腐性能的影响 | 第55-57页 |
| ·其他条件对防腐性能的影响 | 第57页 |
| ·制备条件参数影响薄膜防腐性能的机理分析 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 氮化钛复合膜对防腐性能的改善 | 第60-65页 |
| ·氮化钛复合膜的制备 | 第60页 |
| ·氮化钛复合膜的电化学极化曲线测量 | 第60-62页 |
| ·复合膜改善防腐性的微观原理分析 | 第62-63页 |
| ·薄膜的防护特性 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72页 |