| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·概述 | 第9页 |
| ·半导体氧化物气敏材料的发展概况 | 第9-10页 |
| ·纳米 Cr_2O_3 材料的研究现状 | 第10-16页 |
| ·纳米 Cr_2O_3 材料的制备方法 | 第11-15页 |
| ·纳米 Cr_2O_3 材料的应用研究 | 第15-16页 |
| ·纳米 Cr_2O_3 材料的气敏性能研究进展 | 第16-17页 |
| ·课题的选取及研究意义 | 第17-18页 |
| 第2章 实验部分 | 第18-26页 |
| ·主要试剂与仪器 | 第18-19页 |
| ·实验主要试剂 | 第18页 |
| ·主要测试仪器 | 第18-19页 |
| ·纳米粉体的软化学合成 | 第19-20页 |
| ·沉淀法制备纳米粉体 | 第19页 |
| ·水热法制备纳米粉体 | 第19页 |
| ·柠檬酸盐法制备纳米粉体 | 第19页 |
| ·共沉淀法制备Cr_(2-x)M_xO_3（x＝0.1-0.5）（M=Fe、Sn、Ni）纳米粉体 | 第19-20页 |
| ·薄膜的制备 | 第20-22页 |
| ·靶材的制备 | 第20页 |
| ·基片的选择与处理 | 第20页 |
| ·薄膜的制备与后处理 | 第20-22页 |
| ·材料的表征 | 第22-23页 |
| ·物相分析 | 第22页 |
| ·热分析 | 第22页 |
| ·红外分析 | 第22-23页 |
| ·形貌分析 | 第23页 |
| ·X-射线光电子能谱分析 | 第23页 |
| ·比表面积的测定 | 第23页 |
| ·气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第23-26页 |
| ·厚膜型气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第23-24页 |
| ·薄膜型气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第24-25页 |
| ·气敏特性参数 | 第25-26页 |
| 第3章 Cr_2O_3纳米材料的软化学合成及其气敏性能 | 第26-38页 |
| ·三种方法制备Cr_2O_3纳米粉体的表征及其气敏性能 | 第26-30页 |
| ·Cr_2O_3 纳米粉体的物相分析 | 第26-27页 |
| ·Cr_2O_3 纳米粉体扫描电镜与比表面积 | 第27页 |
| ·Cr_2O_3 纳米粉体的气敏性能 | 第27-29页 |
| ·Cr_2O_3 纳米粉体的X-射线光电子能谱 | 第29-30页 |
| ·沉淀法制备的Cr_2O_3 纳米粉体及其气敏性能 | 第30-37页 |
| ·Cr_2O_3 前驱体的微观结构 | 第30-33页 |
| ·不同烧结温度制备的Cr_2O_3 纳米材料的气敏性能 | 第33-34页 |
| ·450℃ 制备的Cr_2O_3 纳米材料的气敏性能 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 共沉淀法制备Cr_(2-x)M_xO_3（x＝0.0-0.5）（M=Fe、Sn、Ni）粉体及其气敏性能 | 第38-59页 |
| ·Cr_(2-x)M_xO_3（x＝0.1-0.5）（M=Fe、Sn、Ni）粉体的物相分析 | 第38-40页 |
| ·Cr_(2-x)M_xO_3（x＝0.1-0.5）（M=Fe、Sn、Ni）粉体的形貌与比表面积 | 第40-41页 |
| ·Cr_(2-x)M_xO_3（x＝0.1-0.5）（M=Fe、Sn、Ni）材料的气敏性能 | 第41-51页 |
| ·Cr_(2-x)Fe_xO_3（x＝0.1-0.5）材料的气敏性能 | 第41-44页 |
| ·Cr_(2-x)Sn_xO_3（x＝0.1-0.5）材料的气敏性能 | 第44-47页 |
| ·Cr_(2-x)Ni_xO_3（x＝0.1-0.5）材料的气敏性能 | 第47-50页 |
| ·Cr_(1.7)Fe_(0.3)O_3、Cr_(1.9)Sr_(0.1)O_3 和Cr_(1.5)Ni_(0.5)O_3 的气敏性能的比较 | 第50-51页 |
| ·Cr_(1.5)Ni_(0.5)O_3 的气敏性能研究 | 第51-53页 |
| ·Cr_(2-x)M_xO_3 (x＝0.0-0.5)(M=Fe、Sn、Ni)粉体的 X-射线光电子能谱分析 | 第53-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 磁控溅射法制备 Cr_(1.5)Ni_(0.5)O_3 薄膜及其气敏性能 | 第59-70页 |
| ·磁控溅射技术 | 第59-62页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第60-61页 |
| ·磁控溅射法镀膜的重要参数 | 第61-62页 |
| ·磁控溅射法制备 Cr_(1.5)Ni_(0.5)O_3 薄膜条件的探索 | 第62-64页 |
| ·Cr_(1.5)Ni_(0.5)O_3 薄膜的表面形貌 | 第64-65页 |
| ·Cr_(1.5)Ni_(0.5)O_3 薄膜的气敏性能 | 第65-67页 |
| ·Cr_(1.5)Ni_(0.5)O_3 薄膜的 X-射线光电子能谱分析 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表(拟发表)的论文 | 第80页 |
