| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-19页 |
| 第1章 绪论 | 第19-40页 |
| ·工程背景 | 第19页 |
| ·等离子体 | 第19-22页 |
| ·等离子体电解 | 第22-23页 |
| ·等离子电解的物理化学基础 | 第23-26页 |
| ·等离子体电解溶渗技术 | 第26-29页 |
| ·等离子体电解溶渗的基本原理 | 第27页 |
| ·等离子体电解溶渗的工艺特点 | 第27-28页 |
| ·等离子体电解溶渗的性能 | 第28-29页 |
| ·等离子体电解氧化技术 | 第29-31页 |
| ·铝质材料的等离子体电解氧化 | 第31-38页 |
| ·等离子体电解氧化的反应过程 | 第32页 |
| ·等离子体电解氧化陶瓷层的生成条件 | 第32-34页 |
| ·等离子体电解氧化的工艺特点 | 第34-35页 |
| ·等离子体电解氧化陶瓷层的特性 | 第35-38页 |
| ·本文选题的目的和主要研究内容 | 第38-40页 |
| 第2章 实验设备和研究方法 | 第40-45页 |
| ·等离子体电解沉积实验装置系统 | 第40页 |
| ·实验材料和处理工艺 | 第40-42页 |
| ·研究方法 | 第42-44页 |
| ·相组成分析 | 第42页 |
| ·沉积层的显微组织和成分分析 | 第42页 |
| ·沉积层性能测试 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第3章 铝表面等离子体电解氧化及强化行为 | 第45-108页 |
| ·等离子体电解氧化陶瓷层的生长特性 | 第45-49页 |
| ·生长特性研究实验过程 | 第45-46页 |
| ·电学参量和微弧光点的变化过程 | 第46-48页 |
| ·等离子体电解氧化陶瓷层表面粗糙度的变化过程 | 第48-49页 |
| ·等离子体电解液的优化及工艺参数影响 | 第49-56页 |
| ·等离子体氧化电解液的优化 | 第49-51页 |
| ·陶瓷层厚度与处理时间及电流密度的关系 | 第51-52页 |
| ·电流电压随处理时间变化及能耗 | 第52-53页 |
| ·陶瓷层的相组成 | 第53-54页 |
| ·陶瓷层表面与断面形貌分析 | 第54-56页 |
| ·磷酸盐等离子体电解氧化陶瓷层强化 | 第56-69页 |
| ·KF 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第56-58页 |
| ·Na_2WO_4 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第58-59页 |
| ·Na_2B_4O_7 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第59-61页 |
| ·纳米A1_2O_3 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第61-62页 |
| ·K_2Cr_2O_7 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第62-64页 |
| ·混合添加剂共同作用对陶瓷层组织形貌的影响 | 第64-66页 |
| ·添加剂对陶瓷层耐磨性能的影响 | 第66-67页 |
| ·添加剂对陶瓷层耐蚀性能的影响 | 第67-69页 |
| ·硅酸盐等离子体电解氧化陶瓷层强化 | 第69-82页 |
| ·石墨对陶瓷层组织形貌的影响 | 第69-71页 |
| ·SiC 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第71-72页 |
| ·MoS2 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第72-73页 |
| ·MgO 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第73-75页 |
| ·纳米A1_2O_3 对陶瓷层组织形貌的影响 | 第75-77页 |
| ·混合添加剂对陶瓷层组织形貌的影响 | 第77-79页 |
| ·添加剂对陶瓷层耐磨性能的影响 | 第79-80页 |
| ·添加剂对陶瓷层耐蚀性能的影响 | 第80-82页 |
| ·超声波对等离子体电解氧化陶瓷层强化的影响 | 第82-97页 |
| ·超声波对陶瓷层相组成的影响 | 第82页 |
| ·超声波对陶瓷层表面形貌的影响 | 第82-84页 |
| ·超声波与添加剂双重强化时陶瓷层的组织形貌 | 第84-92页 |
| ·超声波与添加剂双重作用时陶瓷层的特性 | 第92-97页 |
| ·刷镀法制备PEO 陶瓷层及电绝缘性研究 | 第97-99页 |
| ·等离子体电解氧化机理分析 | 第99-106页 |
| ·本章小结 | 第106-108页 |
| 第4章 Q235 钢表面间接等离子体电解氧化 | 第108-149页 |
| ·Q235 钢表面间接等离子体电解氧化途径一：热浸镀铝-PEO 复合 | 第108-115页 |
| ·热浸镀铝层的制备与分析 | 第108-112页 |
| ·等离子体电解氧化电解液的选择 | 第112页 |
| ·工艺参数对等离子体电解氧化陶瓷层厚度及成膜速度的影响 | 第112-114页 |
| ·等离子体电解氧化陶瓷层的表面形貌 | 第114页 |
| ·陶瓷层相组成分析 | 第114-115页 |
| ·Q235 钢表面间接等离子体电解氧化途径二：电弧喷铝-PEO 复合 | 第115-128页 |
| ·电弧喷涂层感应重熔的有限元模拟与分析 | 第116-122页 |
| ·电弧喷涂铝层感应重熔实验研究 | 第122-128页 |
| ·适于进行等离子体电解氧化的电弧喷涂铝层的条件 | 第128-130页 |
| ·电弧喷涂铝感应重熔后等离子体电解氧化实验结果 | 第130-147页 |
| ·电流密度对陶瓷层厚度的影响 | 第130-131页 |
| ·处理时间对陶瓷层厚度的影响 | 第131-132页 |
| ·陶瓷层的形貌分析 | 第132-135页 |
| ·陶瓷层的成分分析(EDS) | 第135-136页 |
| ·陶瓷层的相组成分析 | 第136-139页 |
| ·陶瓷层的性能分析 | 第139-147页 |
| ·本章小结 | 第147-149页 |
| 第5章 Q235 钢表面等离子体电解渗透 | 第149-180页 |
| ·实验方法的优化 | 第149-153页 |
| ·实验反应容器的确定 | 第149-150页 |
| ·实验方法的改进 | 第150-153页 |
| ·等离子体电解渗氮处理 | 第153-161页 |
| ·电解液体系的优化 | 第153-160页 |
| ·电压对渗氮处理表层相组成影响 | 第160-161页 |
| ·等离子体电解渗氮层的断面形貌 | 第161页 |
| ·等离子体电解渗碳处理 | 第161-163页 |
| ·等离子体电解渗碳层的相组成 | 第161-162页 |
| ·等离子体电解渗碳断面形貌分析 | 第162页 |
| ·显微硬度测定 | 第162-163页 |
| ·等离子体电解碳氮共渗处理 | 第163-178页 |
| ·临界渗入条件的初步探索 | 第163-164页 |
| ·临界渗入条件下的相组成变化 | 第164-165页 |
| ·等离子体电解碳氮共渗层的断面形貌 | 第165-168页 |
| ·等离子体电解碳氮共渗层的成分分析 | 第168-169页 |
| ·等离子体电解碳氮共渗层的相组成 | 第169-171页 |
| ·等离子体电解碳氮共渗层厚度影响因素 | 第171-173页 |
| ·放电过程分析 | 第173-176页 |
| ·等离子体电解碳氮共渗层的特性 | 第176-178页 |
| ·本章小结 | 第178-180页 |
| 第6章 火花放电-等离子体电解溶渗复合工艺 | 第180-188页 |
| ·基本原理和工艺特点 | 第180-182页 |
| ·强化层形成与分析 | 第182-186页 |
| ·本章小结 | 第186-188页 |
| 结论 | 第188-190页 |
| 参考文献 | 第190-203页 |
| 攻读博士学位期间承担的科研任务及主要科研成果 | 第203-206页 |
| 致谢 | 第206-207页 |
| 作者简介 | 第207页 |
