摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 聚偏氟乙烯的结构与性质 | 第12-14页 |
1.2 二硫化钼简介 | 第14-15页 |
1.2.1 二硫化钼的结构与性能 | 第14-15页 |
1.3 单层二硫化钼的制备 | 第15-18页 |
1.3.1 机械剥离法 | 第15-16页 |
1.3.2 液相剥离法 | 第16页 |
1.3.3 插层剥离法 | 第16-17页 |
1.3.4 低能球磨超声法 | 第17页 |
1.3.5 表面活性剂法 | 第17-18页 |
1.4 聚合物复合材料的制备方法 | 第18-19页 |
1.4.1 熔融共混法 | 第18页 |
1.4.2 溶液共混法 | 第18-19页 |
1.4.3 原位聚合 | 第19页 |
1.4.4 插层法 | 第19页 |
1.5 聚合物基复合材料的研究进展 | 第19-24页 |
1.5.1 聚合物基复合材料介电性能研究 | 第19-21页 |
1.5.2 聚合物基复合材料压电性能研究 | 第21-24页 |
1.6 二硫化钼/聚合物基复合材料的研究现状 | 第24-25页 |
1.7 本课题的目的与意义 | 第25页 |
1.8 本课题的主要研究内容 | 第25-27页 |
第2章 MoS_2/PVDF复合材料的制备与性能研究 | 第27-38页 |
2.1 引言 | 第27-28页 |
2.2 实验部分 | 第28-29页 |
2.2.1 实验药品 | 第28页 |
2.2.2 实验仪器与设备 | 第28页 |
2.2.3 实验过程 | 第28-29页 |
2.2.4 测试与表征 | 第29页 |
2.3 结果与讨论 | 第29-37页 |
2.3.1 化学结构表征 | 第29-32页 |
2.3.2 热性能分析 | 第32-33页 |
2.3.3 介电性能分析 | 第33-34页 |
2.3.4 介电性能分析 | 第34-35页 |
2.3.5 力学性能分析 | 第35-36页 |
2.3.6 复合材料SEM分析 | 第36-37页 |
2.4 小结 | 第37-38页 |
第3章 MoS_2纳米片的制备及MoS_2/PVDF复合材料的制备与性能研究 | 第38-51页 |
3.1 引言 | 第38-39页 |
3.2 实验部分 | 第39-41页 |
3.2.1 实验药品 | 第39页 |
3.2.2 实验仪器与设备 | 第39页 |
3.2.3 实验过程 | 第39-40页 |
3.2.4 测试与表征 | 第40-41页 |
3.3 结果与讨论 | 第41-50页 |
3.3.1 紫外光谱定量分析 | 第41-42页 |
3.3.2 微观形貌分析 | 第42-44页 |
3.3.3 化学结构表征 | 第44-45页 |
3.3.4 热性能分析 | 第45-46页 |
3.3.5 介电性能分析 | 第46-47页 |
3.3.6 压电性能分析 | 第47-48页 |
3.3.7 力学性能分析 | 第48-50页 |
3.4 小结 | 第50-51页 |
第4章 MoS_2纳米片@PVP/PVDF复合材料的制备与性能研究 | 第51-60页 |
4.1 引言 | 第51-52页 |
4.2 实验部分 | 第52-53页 |
4.2.1 实验药品 | 第52页 |
4.2.2 实验仪器与设备 | 第52页 |
4.2.3 实验过程 | 第52-53页 |
4.2.4 测试与表征 | 第53页 |
4.3 结果与讨论 | 第53-59页 |
4.3.1 化学结构表征 | 第53-55页 |
4.3.3 热性能分析 | 第55-56页 |
4.3.4 介电性能分析 | 第56-57页 |
4.3.5 压电性能分析 | 第57-59页 |
4.4 小结 | 第59-60页 |
第5章 结论 | 第60-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
附录 :硕士期间发表的论文 | 第69页 |