| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目次 | 第9-12页 |
| 1 引言 | 第12-14页 |
| 2 文献综述 | 第14-26页 |
| ·ZnO结构与性质 | 第14-16页 |
| ·ZnO的结构 | 第14-15页 |
| ·ZnO的基本物理性质 | 第15页 |
| ·ZnO的光电性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO的其他性质 | 第16页 |
| ·ZnO的本征点缺陷与非故意掺杂 | 第16-17页 |
| ·ZnO透明导电薄膜的制备技术 | 第17-18页 |
| ·ZnO透明导电薄膜的研究现状 | 第18-21页 |
| ·ZnO单层透明导电薄膜 | 第18-20页 |
| ·ZnO多层结构透明导电薄膜 | 第20-21页 |
| ·ZnO透明导电薄膜的应用 | 第21-23页 |
| ·在显示器件上的应用 | 第21-22页 |
| ·在太阳能电池上的应用 | 第22页 |
| ·红外反射膜 | 第22页 |
| ·面发热膜 | 第22页 |
| ·电磁屏蔽和防静电膜 | 第22-23页 |
| ·本文的选题依据和研究内容 | 第23-26页 |
| 3 实验设备及原理、薄膜制备过程及性能表征 | 第26-32页 |
| ·实验设备及原理 | 第26-28页 |
| ·实验设备 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射原理 | 第27-28页 |
| ·薄膜制备过程 | 第28-30页 |
| ·靶材的制备 | 第28-29页 |
| ·衬底及其清洗 | 第29-30页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第30页 |
| ·性能表征 | 第30-32页 |
| 4 ZnO:Ga薄膜的性能优化 | 第32-44页 |
| ·多因素优化实验设计——正交设计 | 第32-36页 |
| ·实验设计 | 第32-33页 |
| ·正交表与正交设计 | 第33-35页 |
| ·正交设计实验结果分析 | 第35-36页 |
| ·正交设计在ZnO:Ga薄膜生长中的应用 | 第36-43页 |
| ·实验因素和水平的选取 | 第36页 |
| ·正交阵列的设定 | 第36-38页 |
| ·实验结果与数据分析 | 第38-39页 |
| ·验证与薄膜性能表征 | 第39-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 5 ZnO:Ga薄膜的低温生长 | 第44-58页 |
| ·衬底温度对ZnO:Ga薄膜特性的影响 | 第45-52页 |
| ·衬底温度对ZnO:Ga薄膜的电学性能的影响 | 第46-47页 |
| ·衬底温度对ZnO:Ga薄膜结构特性的影响 | 第47-49页 |
| ·衬底温度对ZnO:Ga薄膜的光学性能的影响 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| ·ZnO:Ga薄膜的低温性能优化 | 第52-58页 |
| ·溅射功率对低温生长ZnO:Ga薄膜结构性能的影响 | 第52-54页 |
| ·溅射功率对低温生长ZnO:Ga薄膜电学性能的影响 | 第54-55页 |
| ·溅射功率对低温生长ZnO:Ga薄膜光学性能的影响 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-58页 |
| 6 ZnO多层结构透明导电薄膜 | 第58-84页 |
| ·ZnO:Ga/Cu多层结构透明导电薄膜 | 第59-67页 |
| ·ZnO:Ga/Cu多层结构透明导电薄膜的结构特性 | 第60-61页 |
| ·ZnO:Ga/Cu多层结构透明导电薄膜的电学性能 | 第61-63页 |
| ·ZnO:Ga/Cu多层结构透明导电薄膜的光学性能 | 第63-66页 |
| ·ZnO:Ga/Cu多层结构透明导电薄膜的性能指数 | 第66-67页 |
| ·ZnO:Al/Cu多层结构透明导电薄膜 | 第67-74页 |
| ·ZnO:Al/Cu多层结构透明导电薄膜的结构特性 | 第68-69页 |
| ·ZnO:Al/Cu多层结构透明导电薄膜的电学性能 | 第69-70页 |
| ·ZnO:Al/Cu多层结构透明导电薄膜的光学性能 | 第70-73页 |
| ·ZnO:Al/Cu多层结构透明导电薄膜的性能指标 | 第73页 |
| ·ZnO:Al/Cu与ZnO:Ga/Cu多层结构薄膜的性能比较 | 第73-74页 |
| ·ZnO:Ga/Cu/ZnO:Ga多层结构透明导电薄膜 | 第74-80页 |
| ·ZnO:Ga/Cu/Zno:Ga多层结构透明导电薄膜的结构特性 | 第75页 |
| ·ZnO:Ga/Cu/ZnO:Ga多层结构透明导电薄膜的电学特性 | 第75-77页 |
| ·ZnO:Ga/Cu/ZnO:Ga多层结构透明导电薄膜的光学特性 | 第77-79页 |
| ·ZnO:Ga/Cu/ZnO:Ga多层结构透明导电薄膜的性能指标 | 第79页 |
| ·ZnO:Ga/Cu/ZnO:Ga与ZnO:Ga/Cu多层结构薄膜的性能比较 | 第79-80页 |
| ·退火对ZnO:Ga/Cu多层结构透明导电薄膜性能的影响 | 第80-82页 |
| ·退火对ZnO:Ga/Cu多层结构薄膜电学性能的影响 | 第80-81页 |
| ·退火对ZnO:Ga/Cu多层结构薄膜光学性能的影响 | 第81页 |
| ·退火对ZnO:Ga/Cu多层结构薄膜性能指标的影响 | 第81-82页 |
| ·小结 | 第82-84页 |
| 7 结论与展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-94页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间所取得的科研成果 | 第94页 |
