| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 本课题的研究背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 薄膜应变计的发展现状 | 第9-14页 |
| 1.3 ITO透明薄膜应变计的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 选题依据与研究内容 | 第15-17页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第15页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 薄膜及薄膜应变计性能的制备及表征 | 第17-38页 |
| 2.1 敏感薄膜材料性能表征方法 | 第17-24页 |
| 2.1.1 敏感薄膜厚度的表征 | 第17-18页 |
| 2.1.2 敏感薄膜材料结构的表征 | 第18-19页 |
| 2.1.3 敏感薄膜电学性能测试 | 第19-20页 |
| 2.1.4 敏感薄膜光学性能测试 | 第20-21页 |
| 2.1.5 敏感薄膜材料表面形貌的表征 | 第21-24页 |
| 2.2 薄膜应变计性能的表征 | 第24-26页 |
| 2.3 ITO薄膜的制备 | 第26-28页 |
| 2.4 ITO薄膜应变计的制备 | 第28-37页 |
| 2.4.1 ITO薄膜应变计的制备工艺选择 | 第28-29页 |
| 2.4.2 ITO薄膜应变计的结构设计 | 第29-30页 |
| 2.4.3 悬臂梁的表面处理 | 第30-31页 |
| 2.4.4 绝缘层的制备 | 第31-32页 |
| 2.4.5 光刻法制备透明ITO薄膜应变计 | 第32-37页 |
| 2.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 ITO敏感薄膜的性能研究 | 第38-55页 |
| 3.1 ITO薄膜生长速率分析 | 第38-39页 |
| 3.2 ITO薄膜溅射电压与溅射电流密度分析 | 第39页 |
| 3.3 ITO薄膜晶体结构分析 | 第39-44页 |
| 3.4 ITO薄膜电学性能测试 | 第44-45页 |
| 3.5 ITO薄膜光学性能测试 | 第45-48页 |
| 3.6 溅射功率密度对ITO薄膜生长模式的影响 | 第48-54页 |
| 3.7 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 透明ITO薄膜应变计的测试分析 | 第55-62页 |
| 4.1 不同厚度应变计的光学比较 | 第55-56页 |
| 4.2 透明ITO薄膜应变计的灵敏度系数测试与研究 | 第56-60页 |
| 4.2.1 灵敏度系数测试原理 | 第56-58页 |
| 4.2.2 测试电桥的选择 | 第58-59页 |
| 4.2.3 透明ITO薄膜应变计的灵敏度系数测试与分析 | 第59-60页 |
| 4.3 不同基底上透明ITO薄膜应变计性能测试与研究 | 第60-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 结论与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第68页 |
| 攻读硕士学位期间申请发明专利情况 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
