微纳米CMM系统测试与应用研究
| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| abstract | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第17-26页 |
| 1.1 概述 | 第17-18页 |
| 1.2 微纳米三坐标测量机国内外的研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3 国内外微纳三维测头的研究进展 | 第21-24页 |
| 1.4 课题来源、研究内容及意义 | 第24-26页 |
| 1.4.1 课题来源 | 第24页 |
| 1.4.2 研究意义及内容 | 第24-26页 |
| 第2章 微纳米三坐标测量机系统 | 第26-37页 |
| 2.1 “331”原则的布局结构 | 第26-28页 |
| 2.2 微纳米三坐标测量机系统 | 第28-37页 |
| 2.2.1 测量系统 | 第29-33页 |
| 2.2.2 三维工作台 | 第33-35页 |
| 2.2.3 力平衡系统及控温隔振系统 | 第35-36页 |
| 2.2.4 系统工作流程 | 第36-37页 |
| 第3章 微纳米三坐标测量机系统测试 | 第37-45页 |
| 3.1 测量系统漂移和噪声测试 | 第37-39页 |
| 3.2 机械零点重复性测试 | 第39-40页 |
| 3.3 工作台定位误差测试 | 第40-42页 |
| 3.4 测头量程测试 | 第42-43页 |
| 3.5 各轴单点触发重复性测试 | 第43-45页 |
| 第4章 三维接触扫描测头误差分析与校正 | 第45-58页 |
| 4.1 测头接触误差分析 | 第45-46页 |
| 4.2 测头信号耦合分析 | 第46-51页 |
| 4.2.1 水平方向对竖直方向的耦合 | 第47-49页 |
| 4.2.2 竖直方向对水平方向的耦合 | 第49-50页 |
| 4.2.3 坐标系不一致产生耦合 | 第50-51页 |
| 4.3 测头标定 | 第51-54页 |
| 4.4 修正模型 | 第54-58页 |
| 4.4.1 基于坐标系变换的模型 | 第54-56页 |
| 4.4.2 主方向多项式拟合模型 | 第56-58页 |
| 第5章 微纳米三坐标测量机应用研究 | 第58-73页 |
| 5.1 平面度测量 | 第58-60页 |
| 5.2 长度测量 | 第60-62页 |
| 5.3 环规测量 | 第62-71页 |
| 5.4 透镜轮廓测量 | 第71-73页 |
| 第6章 研究总结与工作展望 | 第73-75页 |
| 6.1 研究总结 | 第73页 |
| 6.2 工作展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第78-79页 |
