摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-26页 |
1.1 本文课题的来源 | 第12页 |
1.2 课题研究的背景与意义 | 第12-13页 |
1.3 单晶锗的性质 | 第13-16页 |
1.3.1 单晶锗的晶体结构和化学性质 | 第13页 |
1.3.2 单晶锗的物理性质 | 第13-15页 |
1.3.3 单晶锗生产过程与其加工性能 | 第15-16页 |
1.4 国内外研究现状 | 第16-23页 |
1.4.1 单晶锗的超精密加工技术 | 第16-18页 |
1.4.2 研磨抛光加工理论模型 | 第18-20页 |
1.4.3 磨粒对工件表面冲击作用 | 第20-22页 |
1.4.4 研磨抛光过程中多相流作用 | 第22-23页 |
1.5 单晶锗研磨抛光加工研究的不足 | 第23-24页 |
1.6 本文的主要研究内容及工作 | 第24-26页 |
第二章 磨粒冲击作用理论与仿真分析 | 第26-46页 |
2.1 游离磨粒冲击材料去除理论 | 第26-28页 |
2.2 ABAQUS有限元软件 | 第28-29页 |
2.3 基于ABAQUS的单颗磨粒冲击工件表面过程仿真 | 第29-39页 |
2.3.1 单颗磨粒冲击模型建立 | 第29-30页 |
2.3.2 有限元模型网格划分与属性设置 | 第30-31页 |
2.3.3 单颗粒有限元仿真结果与分析 | 第31-39页 |
2.4 基于ABAQUS的多颗磨粒冲击工件表面过程仿真 | 第39-45页 |
2.4.1 多颗粒仿真模型建立 | 第39-40页 |
2.4.2 磨粒材料的多颗粒仿真分析 | 第40-42页 |
2.4.3 磨粒粒径的多颗粒仿真分析 | 第42-44页 |
2.4.4 不同方向多颗磨粒冲击仿真分析 | 第44-45页 |
2.5 本章小结 | 第45-46页 |
第三章 磨粒流作用理论与仿真分析 | 第46-60页 |
3.1 两相流作用相关理论 | 第46-51页 |
3.1.1 两相流作用基本方程 | 第46-47页 |
3.1.2 颗粒相的基本方程 | 第47-48页 |
3.1.3 湍流流场数学模型 | 第48-50页 |
3.1.4 固-液两相流中颗粒动力学理论 | 第50-51页 |
3.2 CFD有限元软件 | 第51-52页 |
3.3 磨粒流仿真分析 | 第52-59页 |
3.3.1 仿真模型建立 | 第52-54页 |
3.3.2 不同流速仿真分析 | 第54-56页 |
3.3.3 不同磨粒材料仿真分析 | 第56-58页 |
3.3.4 不同磨粒粒径仿真分析 | 第58-59页 |
3.4 本章小结 | 第59-60页 |
第四章 研磨抛光实验与实验结果分析 | 第60-84页 |
4.1 研磨抛光加工实验平台 | 第60-64页 |
4.1.1 加工装置 | 第60-61页 |
4.1.2 辅助设备 | 第61-62页 |
4.1.3 实验材料 | 第62-64页 |
4.2 实验过程 | 第64-68页 |
4.3 检测方法与检测指标 | 第68-72页 |
4.3.1 检测方法 | 第69-71页 |
4.3.2 检测指标 | 第71-72页 |
4.4 实验结果分析 | 第72-82页 |
4.4.1 不同抛光液对材料平均去除率及试件表面平整度影响分析 | 第73-77页 |
4.4.2 不同抛光液对试件边缘磨损的影响 | 第77-81页 |
4.4.3 不同抛光液对试件表面残余应力影响分析 | 第81-82页 |
4.5 本章小结 | 第82-84页 |
第五章 总结与展望 | 第84-86页 |
5.1 总结 | 第84-85页 |
5.2 展望 | 第85-86页 |
致谢 | 第86-88页 |
参考文献 | 第88-94页 |
附录A:本人在攻读硕士学位期间的科研成果 | 第94页 |