| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 1 引言 | 第12-23页 |
| 1.1 等离子体简介 | 第12-13页 |
| 1.2 低气压低温等离子体在工业中的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 气体放电的简单原理 | 第15-19页 |
| 1.4 低气压等离子体源 | 第19-23页 |
| 2 实验系统 | 第23-30页 |
| 2.1 真空系统 | 第23-25页 |
| 2.2 电气配置 | 第25-26页 |
| 2.3 测试系统 | 第26-30页 |
| 3 低气压大体积等离子体发生 | 第30-35页 |
| 3.1 放电图像 | 第30-31页 |
| 3.2 重复脉冲条件下放电现象的变化过程 | 第31-35页 |
| 4 低气压等离子体的电学特性 | 第35-47页 |
| 4.1 放电基本波形 | 第36页 |
| 4.2 放电起始电压 | 第36-39页 |
| 4.3 放电过程中反应器阻抗的变化 | 第39-41页 |
| 4.4 功率密度与各个参数的关系 | 第41-45页 |
| 4.5 小结 | 第45-47页 |
| 5 低气压等离子体的光学特性 | 第47-56页 |
| 5.1 典型的发射光谱图 | 第49-50页 |
| 5.2 不同空间位置的发射光谱 | 第50-51页 |
| 5.3 不同气压下的发射光谱 | 第51页 |
| 5.4 不同电压峰值下的发射光谱 | 第51-54页 |
| 5.5 双光纤光电倍增系统测量低气压下等离子体的生长速度 | 第54-55页 |
| 5.6 小结 | 第55-56页 |
| 6 结论和展望 | 第56-59页 |
| 6.1 结论 | 第56页 |
| 6.2 展望 | 第56-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 作者简历及在读期间主要研究成果 | 第63页 |