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类氖氩46.9nm和69.8nm激光产生机理的理论和实验研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
第1章 绪论第7-16页
    1.1 课题研究背景及研究的目的和意义第7-9页
        1.1.1 研究背景第7-9页
        1.1.2 研究目的和意义第9页
    1.2 国内外研究现状及分析第9-14页
        1.2.1 国外研究现状第9-12页
        1.2.2 国内研究现状第12-13页
        1.2.3 国内外研究现状分析第13-14页
    1.3 本文的主要研究内容第14-16页
第2章 类氖氩 46.9nm 和 69.8nm 激光跃迁理论分析第16-36页
    2.1 引言第16页
    2.2 电子碰撞激发第16-17页
    2.3 亚稳态能级的单极激发第17-18页
    2.4 类氖氩原子参数计算第18-27页
        2.4.1 Cowan 物理程序简介第19页
        2.4.2 Cowan 物理程序的使用第19-22页
        2.4.3 类氖氩原子参数计算第22-27页
    2.5 速率方程建立及讨论第27-35页
    2.6 本章小结第35-36页
第3章 毛细管放电软 X 射线激光装置及改善第36-42页
    3.1 引言第36页
    3.2 毛细管放电软 X 射线激光装置介绍第36-39页
        3.2.1 Marx 发生器第37-38页
        3.2.2 Blumlein 传输线第38页
        3.2.3 主开关第38-39页
        3.2.4 探测系统第39页
    3.3 实验装置改善第39-41页
        3.3.1 预主脉冲隔离电感改善第39-40页
        3.3.2 探测系统中干扰信号的电磁屏蔽第40-41页
    3.4 本章小结第41-42页
第4章 类氖氩 46.9nm 和 69.8nm 激光实验研究第42-60页
    4.1 引言第42页
    4.2 XRD 测量激光信号实验第42-45页
    4.3 类氖氩 46.9nm 和 69.8nm 激光最佳实验条件研究第45-58页
        4.3.1 Rowland 谱仪标定第45-47页
        4.3.2 主脉冲电流改变方法第47-48页
        4.3.3 不同电流下 46.9nm 和 69.8nm 激光强度随气压变化第48-58页
    4.4 本章小结第58-60页
结论第60-62页
参考文献第62-66页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第66-68页
致谢第68页

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