非晶铟锌氧化物薄膜晶体管的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·薄膜晶体管的工作原理 | 第9-15页 |
| ·薄膜晶体管的电流-电压特性 | 第15-18页 |
| ·薄膜晶体管在平板显示中的研究现状 | 第18-20页 |
| ·氧化物薄膜晶体管材料 | 第20-24页 |
| ·半导体沟道层材料 | 第21-22页 |
| ·绝缘层材料 | 第22-23页 |
| ·电极材料 | 第23-24页 |
| ·本论文的研究意义和研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验方法 | 第25-40页 |
| ·氧化物薄膜晶体管的制备方法 | 第25-32页 |
| ·沟道层的制备方法——直流反应磁控溅射 | 第25-27页 |
| ·绝缘层制备方法——脉冲等离子体沉积 | 第27-29页 |
| ·电极的制备方法——热蒸发 | 第29-30页 |
| ·薄膜晶体管器件的制备工艺 | 第30-32页 |
| ·氧化物薄膜晶体管的表征方法 | 第32-40页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第32-33页 |
| ·薄膜结构及表面形貌测试 | 第33-35页 |
| ·薄膜电学性能测试 | 第35-38页 |
| ·薄膜光学性能测试 | 第38-39页 |
| ·薄膜晶体管电学性能测试 | 第39-40页 |
| 第三章 非晶铟锌氧化物薄膜的研究 | 第40-51页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·非晶铟锌氧化物薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·非晶铟锌氧化物薄膜的性能分析 | 第42-50页 |
| ·非晶铟锌氧化物薄膜的结晶性 | 第42-43页 |
| ·非晶铟锌氧化物薄膜的表面形貌 | 第43-44页 |
| ·非晶铟锌氧化物薄膜的电学性能 | 第44-46页 |
| ·非晶铟锌氧化物薄膜的光学性能 | 第46-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 二氧化硅绝缘层薄膜的研究 | 第51-56页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·二氧化硅薄膜的制备 | 第51-52页 |
| ·二氧化硅薄膜的性能分析 | 第52-54页 |
| ·二氧化硅薄膜的表面形貌 | 第52页 |
| ·二氧化硅薄膜的电学性能 | 第52-54页 |
| ·二氧化硅薄膜的光学性能 | 第54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 非晶铟锌氧化物薄膜晶体管的研究 | 第56-65页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·非晶铟锌氧化物薄膜晶体管的制备流程 | 第56页 |
| ·非晶铟锌氧化物沟道层对器件性能的影响 | 第56-60页 |
| ·实验参数 | 第56-58页 |
| ·输出性能比较 | 第58-60页 |
| ·器件结构对薄膜晶体管性能的影响 | 第60-63页 |
| ·实验参数 | 第60页 |
| ·器件性能比较 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第六章 全文总结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 附录 硕士生在读期间的科研成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
