| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 钨的简介及传统应用 | 第8-9页 |
| 1.1.1 钨的主要特征 | 第8页 |
| 1.1.2 钨的来源 | 第8页 |
| 1.1.3 钨的传统应用 | 第8-9页 |
| 1.2 纳米材料的应用与发展 | 第9-12页 |
| 1.2.1 纳米材料的应用 | 第9-10页 |
| 1.2.2 纳米三氧化钨的应用状况 | 第10-11页 |
| 1.2.3 纳米钨的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 纳米粉体常用的制备方法 | 第12-14页 |
| 1.3.1 固相烧结法 | 第13页 |
| 1.3.2 循环还原氧化法 | 第13页 |
| 1.3.3 气液法 | 第13页 |
| 1.3.4 沉淀法 | 第13页 |
| 1.3.5 溶胶凝胶法 | 第13-14页 |
| 1.4 纳米粉末烧结的现状和特点 | 第14-15页 |
| 1.5 纳米粉末烧结的常用方法 | 第15-19页 |
| 1.5.1 热压烧结 | 第15-16页 |
| 1.5.2 热等静压烧结 | 第16页 |
| 1.5.3 超高压烧结 | 第16-17页 |
| 1.5.4 放电等离子体烧结 | 第17-18页 |
| 1.5.5 等离子体活化烧结 | 第18页 |
| 1.5.6 微波烧结 | 第18页 |
| 1.5.7 爆炸烧结 | 第18-19页 |
| 1.5.8 其他类烧结 | 第19页 |
| 1.6 论文的选题目的和意义 | 第19-20页 |
| 第二章 真空放电等离子体烧结纳米钨粉的制备工艺流程 | 第20-25页 |
| 2.1 三氧化钨纳米粉体的制备 | 第20-21页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第20页 |
| 2.1.2 实验仪器及其他 | 第20页 |
| 2.1.3 实验方法和过程 | 第20-21页 |
| 2.2 纳米钨粉的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.1 实验仪器 | 第21页 |
| 2.2.2 实验内容 | 第21-22页 |
| 2.3 超细晶钨块的制备 | 第22-23页 |
| 2.3.1 实验仪器 | 第22页 |
| 2.3.2 实验内容 | 第22-23页 |
| 2.4 实验中所用到的分析和测量方法 | 第23-25页 |
| 第三章 纳米三氧化钨粉体及纳米钨粉的分析与研究 | 第25-37页 |
| 3.1 纳米三氧化钨粉体组成结构的表征 | 第25-31页 |
| 3.1.1 纳米三氧化钨的差热—热重分析 | 第25-26页 |
| 3.1.2 不同焙烧温度对纳米粉体的影响 | 第26-28页 |
| 3.1.3 不同 pH 值对纳米粉体的影响 | 第28-31页 |
| 3.2 纳米钨粉的表征和结构分析 | 第31-32页 |
| 3.3 其他条件对钨粉的影响 | 第32-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 真空放电等离子体烧结纳米钨粉的分析与研究 | 第37-46页 |
| 4.1 真空放电等离子体烧结纳米钨粉样品的制备 | 第37页 |
| 4.2 真空放电等离子体烧结纳米钨粉的密度分析 | 第37-38页 |
| 4.3 真空放电等离子体烧结纳米钨粉的显微结构分析 | 第38-40页 |
| 4.4 真空放电等离子体烧结纳米钨粉的断口形貌表征与分析 | 第40-41页 |
| 4.5 真空放电等离子体烧结纳米钨粉的显微硬度和纳米硬度分析 | 第41-43页 |
| 4.6 不同钨粉经过真空放电等离子体烧结的比较 | 第43-45页 |
| 4.7 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 真空放电等离子体烧结纳米钨粉的机理分析及探讨 | 第46-49页 |
| 5.1 纳米粉末烧结致密化分析 | 第46-47页 |
| 5.2 压力对真空放电等离子体烧结纳米钨粉样品的影响 | 第47页 |
| 5.3 晶粒长大对真空放电等离子体烧结纳米钨粉样品的影响 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
