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球栅阵列焊点与Cu基板界面在热/电/振动载荷下的失效机理

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
1 绪论第10-24页
    1.1 微电子封装技术背景第10-13页
        1.1.1 微电子封装在微电子中的重要性第10-12页
        1.1.2 电子封装的无铅化发展趋势第12-13页
        1.1.3 无铅焊点的可靠性问题第13页
    1.2 集成电路组装技术第13-15页
    1.3 锡钎焊界面反应第15-16页
    1.4 界面金属间化合物的生长机制第16-17页
    1.5 无铅焊点的失效机制第17-21页
        1.5.1 热形变失效第17-18页
        1.5.2 疲劳失效第18-19页
        1.5.3 脆性断裂失效第19-20页
        1.5.4 蠕变失效第20页
        1.5.5 塑性形变第20-21页
        1.5.6 电迁移失效第21页
    1.6 无铅焊点的失效模式第21-22页
    1.7 选题的意义及研究内容第22-24页
2 试验材料及方法第24-32页
    2.1 试验样品的准备第24-25页
        2.1.1 热冲击试验材料第24页
        2.1.2 振动试验材料第24-25页
    2.2 实验过程第25-32页
        2.2.1 试验样品回流焊接第25-26页
        2.2.2 热冲击试验第26页
        2.2.3 不同回流参数下的振动试验第26-27页
        2.2.4 高密度电流载荷下的振动试验第27-29页
        2.2.5 焊点截面金相制备及观察第29-32页
3 有限元模拟方法及过程第32-40页
    3.1 引言第32页
    3.2 ANSYS 有限元分析软件第32-33页
    3.3 热冲击实验有限元分析过程第33-36页
    3.4 振动实验有限元分析过程第36-38页
    3.5 电流载荷下温度场有限元分析过程第38-40页
4 热冲击载荷对界面金属间化合物的断裂行为的影响第40-52页
    4.1 引言第40-41页
    4.2 焊点宏观变形和裂纹分布统计结果及讨论第41-42页
    4.3 热冲击载荷下的组织变化及断裂失效结果第42-47页
        4.3.1 界面 IMC 生长和焊料合金组织变化第42-45页
        4.3.2 焊料与 Cu 界面断裂行为第45-46页
        4.3.3 有限元模拟应力应变分布第46-47页
    4.4 裂纹的起源与扩展机理讨论第47-49页
    4.5 本章小结第49-52页
5 热输入对金属间化合物振动失效行为的影响第52-66页
    5.1 引言第52-53页
    5.2 不同热输入条件下的金属间化合物的增长第53-56页
    5.3 金属间化合物的厚度对振动失效行为的影响第56-58页
    5.4 振动载荷下焊点的受力模拟第58-59页
    5.5 振动载荷下焊点的断裂机制第59-64页
    5.6 本章小结第64-66页
6 高电流密度对金属间化合物振动失效行为的影响第66-78页
    6.1 引言第66-67页
    6.2 模态分析第67-68页
    6.3 谐响应分析第68-69页
    6.4 高密度电流载荷下的焊点振动疲劳 S-N 曲线第69-71页
    6.5 高密度电流载荷下温度分布第71-74页
    6.6 电载荷下的焊料组织变化和焊点失效行为第74-76页
    6.7 结论第76-78页
7 全文结论第78-80页
致谢第80-82页
参考文献第82-92页
附录第92页
    作者在攻读学位期间发表的论文目录:第92页

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