| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 氧化钒材料概况及研究背景介绍 | 第8-9页 |
| 1.2 氧化钒薄膜的应用 | 第9-13页 |
| 1.2.1 在太赫兹波调制方面的应用 | 第9-10页 |
| 1.2.2 光开关、储存器方面的应用 | 第10-12页 |
| 1.2.3 红外探测技术方面的应用 | 第12-13页 |
| 1.3 本文的研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 氧化钒薄膜的性质、制备过程及分析方法介绍 | 第14-28页 |
| 2.1 金属钒及其主要氧化物 | 第14-18页 |
| 2.1.1 二氧化钒 | 第14-16页 |
| 2.1.2 五氧化二钒 | 第16-17页 |
| 2.1.3 三氧化二钒 | 第17-18页 |
| 2.2 氧化钒薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| 2.2.1 溅射法 | 第18-20页 |
| 2.2.2 脉冲激光法 | 第20页 |
| 2.2.3 溶胶凝胶法 | 第20页 |
| 2.2.4 真空蒸发法 | 第20-21页 |
| 2.3 氧化钒薄膜的分析方法 | 第21-28页 |
| 2.3.1 光学性能分析 | 第21-22页 |
| 2.3.2 电学性能分析 | 第22-24页 |
| 2.3.3 结晶状况分析 | 第24-25页 |
| 2.3.4 形貌分析 | 第25-26页 |
| 2.3.5 成分分析 | 第26-28页 |
| 第三章 氧化钒薄膜制备和检测的相关仪器设备及工艺流程介绍 | 第28-34页 |
| 3.1 氧化钒薄膜的制备与检测相关设备介绍 | 第28-31页 |
| 3.1.1 氧化钒薄膜的制备设备 | 第28-29页 |
| 3.1.2 氧化钒薄膜的检测设备 | 第29-31页 |
| 3.2 氧化钒薄膜制备工艺流程及相关工艺参数 | 第31-34页 |
| 3.2.1 磁控溅射镀膜机溅射沉积金属钒薄膜 | 第31-32页 |
| 3.2.2 金属钒薄膜在氧气中快速热处理制备氧化钒薄膜 | 第32-34页 |
| 第四章 实验数据分析 | 第34-54页 |
| 4.1 不同厚度的氧化钒薄膜最佳热处理条件研究 | 第34-43页 |
| 4.1.1 光激励下氧化钒薄膜的太赫兹调制 | 第36-39页 |
| 4.1.2 热激励下氧化钒薄膜的电学性能 | 第39-40页 |
| 4.1.3 氧化钒薄膜的结晶状况 | 第40页 |
| 4.1.4 氧化钒薄膜的成分组成 | 第40-42页 |
| 4.1.5 氧化钒薄膜的表面形貌 | 第42-43页 |
| 4.2 热处理条件对氧化钒薄膜性能的影响 | 第43-53页 |
| 4.2.1 不同激励光功率下氧化钒薄膜的太赫兹调制 | 第44-49页 |
| 4.2.2 氧化钒薄膜的结晶状况 | 第49-50页 |
| 4.2.3 氧化钒薄膜的成分组成 | 第50-51页 |
| 4.2.4 氧化钒薄膜的表面形貌 | 第51-53页 |
| 4.3 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 实验总结与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 实验总结 | 第54-55页 |
| 5.2 工作展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
