| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 工业应用中的能量束流 | 第13-16页 |
| 1.2 高密度等离子体/离子束源 | 第16-24页 |
| 1.2.1 高密度等离子体的分类 | 第16-18页 |
| 1.2.2 ECR等离子体/离子束 | 第18-20页 |
| 1.2.3 ICP等离子体/离子束 | 第20-24页 |
| 1.3 等离子体/离子束与材料的相互作用 | 第24-26页 |
| 1.4 本论文的主要工作 | 第26-29页 |
| 第二章 ECR氮氩混合等离子体的离子特性 | 第29-49页 |
| 2.1 背景介绍 | 第29-33页 |
| 2.1.1 离子能量分布 | 第29-30页 |
| 2.1.2 ECR等离子体中的离子能量分布 | 第30-33页 |
| 2.2 实验装置及诊断系统 | 第33-37页 |
| 2.2.1 ECR等离子体产生装置 | 第33-34页 |
| 2.2.2 等离子体质量能量分析仪EQP | 第34-35页 |
| 2.2.3 发射光谱 | 第35-37页 |
| 2.3 氮氩混合等离子体离子特性 | 第37-47页 |
| 2.3.1 气体配比的影响 | 第37-42页 |
| 2.3.2 功率的影响 | 第42-45页 |
| 2.3.3 气压的影响 | 第45-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第三章 ECR氢等离子体/离子束的离子特性 | 第49-63页 |
| 3.1 实验介绍 | 第49-51页 |
| 3.1.1 ECR离子源系统 | 第49-50页 |
| 3.1.2 实验安排 | 第50-51页 |
| 3.2 氢等离了体的离子特性 | 第51-56页 |
| 3.2.1 放电参数的影响 | 第51-54页 |
| 3.2.2 与中性束流的相互作用 | 第54-56页 |
| 3.3 氢离子束的离子特性 | 第56-61页 |
| 3.3.1 放电参数的影响 | 第56-59页 |
| 3.3.2 与中性束流的相互作用 | 第59-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 第四章 ECR等离子体/离子束与材料的相互作用 | 第63-81页 |
| 4.1 ECR离子束对第一壁材钨的辐照实验 | 第63-70页 |
| 4.1.1 背景介绍 | 第63页 |
| 4.1.2 实验安排 | 第63-65页 |
| 4.1.3 辐照实验结果 | 第65-70页 |
| 4.2 ECR等离子体制备FeN磁性薄膜 | 第70-78页 |
| 4.2.1 背景介绍 | 第70-76页 |
| 4.2.2 实验安排 | 第76-77页 |
| 4.2.3 薄膜特性测试 | 第77-78页 |
| 4.3 本章小结 | 第78-81页 |
| 第五章 大气压ICP微等离子体射流的特性与应用研究 | 第81-99页 |
| 5.1 背景介绍 | 第81-85页 |
| 5.1.1 大气压微等离子体射流简介 | 第81-84页 |
| 5.1.2 大气压甚高频ICP微等离子体射流介绍 | 第84-85页 |
| 5.2 实验介绍 | 第85-87页 |
| 5.3 大气压ICP微等离子体射流特性 | 第87-93页 |
| 5.3.1 射流长度 | 第87-89页 |
| 5.3.2 外触发的模式转变 | 第89-93页 |
| 5.4 ICP微等离子体射流在快速成形制造中的应用 | 第93-97页 |
| 5.5 本章小结 | 第97-99页 |
| 第六章 总结与展望 | 第99-103页 |
| 6.1 本论文内容总结 | 第99-101页 |
| 6.2 进一步研究方向 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文 | 第112页 |