| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-33页 |
| 1.1 前言 | 第11-12页 |
| 1.2 低辐射镀膜玻璃概述 | 第12-16页 |
| 1.2.1 低辐射镀膜玻璃简介 | 第12-13页 |
| 1.2.2 低辐射镀膜玻璃相关理论 | 第13-16页 |
| 1.3 SnO_2透明导电薄膜概述 | 第16-23页 |
| 1.3.1 SnO_2的基本结构 | 第16-17页 |
| 1.3.2 SnO_2的光学与电学性质 | 第17-18页 |
| 1.3.3 SnO_2薄膜的研究进展 | 第18-23页 |
| 1.4 溶胶-凝胶制备技术 | 第23-32页 |
| 1.4.1 溶胶-凝胶法的基本概念和特点 | 第23-26页 |
| 1.4.2 溶胶-凝胶过程理论研究 | 第26-30页 |
| 1.4.3 溶胶-凝胶法制备薄膜材料 | 第30-32页 |
| 1.5 本课题研究目的及主要内容 | 第32-33页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制备Sb掺杂SnO_2薄膜 | 第33-38页 |
| 2.1 实验原料 | 第33页 |
| 2.2 实验设备 | 第33-34页 |
| 2.3 薄膜制备过程 | 第34-36页 |
| 2.3.1 溶胶的配制 | 第34-35页 |
| 2.3.2 玻璃基底的清洗 | 第35页 |
| 2.3.3 浸渍提拉镀膜和热处理 | 第35-36页 |
| 2.4 表征方法 | 第36-38页 |
| 2.4.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第36页 |
| 2.4.2 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第36页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜（SEM）分析 | 第36-37页 |
| 2.4.4 薄膜光学性能测试 | 第37页 |
| 2.4.5 薄膜电学性能测试 | 第37-38页 |
| 第三章 SnO_2: Sb薄膜的结构与性能 | 第38-50页 |
| 3.1 掺杂量对SnO_2: Sb薄膜结构与光电性能的影响 | 第38-43页 |
| 3.1.1 掺杂量对SnO_2: Sb薄膜结构的影响 | 第38-41页 |
| 3.1.2 掺杂量对SnO_2: Sb薄膜光电性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.2 提拉镀膜次数对SnO_2: Sb薄膜结构与光电性能的影响 | 第43-47页 |
| 3.2.1 提拉镀膜次数对SnO_2:Sb薄膜结构的影响 | 第43-46页 |
| 3.2.2 提拉镀膜次数对SnO_2: Sb薄膜光电性能的影响 | 第46-47页 |
| 3.3 热处理温度对SnO_2: Sb薄膜结构与光电性能的影响 | 第47-49页 |
| 3.3.1 热处理温度对SnO_2: Sb薄膜结构的影响 | 第47页 |
| 3.3.2 热处理温度对SnO_2: Sb薄膜光电性能的影响 | 第47-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 SnO_2: Sb薄膜红外光学性能机理分析 | 第50-58页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 掺杂量对SnO_2: Sb薄膜红外光学性能的影响 | 第50-54页 |
| 4.3 提拉镀膜次数对SnO_2: Sb薄膜红外光学性能的影响 | 第54-56页 |
| 4.4 讨论 | 第56-57页 |
| 4.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 影响SnO_2: Sb薄膜表面雾化和开裂因素初探 | 第58-64页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 SnO_2: Sb薄膜表面的雾化问题 | 第58-60页 |
| 5.3 SnO_2: Sb薄膜的开裂问题 | 第60-63页 |
| 5.3.1 干燥温度对薄膜开裂的影响 | 第60页 |
| 5.3.2 热处理升温速率对薄膜开裂的影响 | 第60-62页 |
| 5.3.3 溶胶陈化时间对薄膜开裂的影响 | 第62-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 作者简介及读研期间主要科研成果 | 第75页 |
