| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 碳化锗薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| 1.2.1 磁控溅射法 | 第10-11页 |
| 1.2.2 化学气相沉积 | 第11页 |
| 1.2.3 脉冲激光沉积 | 第11页 |
| 1.2.4 离子溅射 | 第11-12页 |
| 1.3 碳化锗薄膜的键合结构和性质 | 第12-22页 |
| 1.3.1 碳化锗薄膜的键合结构 | 第12-13页 |
| 1.3.2 碳化锗薄膜的性质 | 第13-22页 |
| 1.4 研究依据与主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第24-30页 |
| 2.1 磁控溅射的工作原理 | 第24-26页 |
| 2.2 样品的制备 | 第26-27页 |
| 2.3 样品的表征 | 第27-30页 |
| 第三章 碳含量对碳化锗薄膜键合结构和硬度的影响 | 第30-38页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 碳含量对碳化锗薄膜成分和键合结构的影响 | 第30-34页 |
| 3.3 碳化锗薄膜硬度随碳含量的演变及机制 | 第34-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 氮引入对碳化锗薄膜成分、键合结构、光学及力学性能影响的研究 | 第38-60页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 氮引入对碳化锗薄膜成分和键合结构的影响 | 第38-47页 |
| 4.2.1 氮引入对碳化锗薄膜化学成分的影响 | 第38-40页 |
| 4.2.2 氮引入对碳化锗薄膜结构和表面形貌的影响 | 第40-43页 |
| 4.2.3 氮引入对碳化锗薄膜化学键的影响 | 第43-47页 |
| 4.3 氮引入对碳化锗薄膜光学和力学性质的影响 | 第47-58页 |
| 4.3.1 氮引入对碳化锗薄膜折射率的影响 | 第47-50页 |
| 4.3.2 氮引入对碳化锗薄膜光学带隙的影响 | 第50-52页 |
| 4.3.3 氮引入对碳化锗薄膜Urbach带尾宽度的影响 | 第52-54页 |
| 4.3.4 氮引入对碳化锗薄膜红外透过性的影响 | 第54-56页 |
| 4.3.5 氮引入对碳化锗薄膜硬度的影响 | 第56-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-72页 |
| 硕士期间所获得科研成果 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
