| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第13-18页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 国内外的发展现状 | 第14-16页 |
| 1.2.1 高温超导磁屏蔽材料的发展现状 | 第14页 |
| 1.2.2 高温超导磁屏蔽特性的研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 超导磁屏蔽的基本原理 | 第18-29页 |
| 2.1 电磁屏蔽 | 第18-24页 |
| 2.1.1 电磁屏蔽的定义 | 第18页 |
| 2.1.2 电磁屏蔽的分类 | 第18-23页 |
| 2.1.3 电磁屏蔽效能 | 第23页 |
| 2.1.4 影响屏蔽效能的因素 | 第23-24页 |
| 2.2 高温超导材料的磁屏蔽原理 | 第24-28页 |
| 2.2.1 超导材料的特性 | 第24-26页 |
| 2.2.2 高温超导材料的屏蔽原理 | 第26-28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 有限元法和Ansoft电磁场仿真基础 | 第29-38页 |
| 3.1 有限元法的简介 | 第29-30页 |
| 3.1.1 有限元法的基本思路 | 第29页 |
| 3.1.2 有限元法的数学基础和应用步骤 | 第29-30页 |
| 3.2 Ansoft软件的电磁场分析 | 第30-37页 |
| 3.2.1 Ansoft电磁场求解的边界条件 | 第30-31页 |
| 3.2.2 Ansoft三维电磁场有限元基础 | 第31-35页 |
| 3.2.3 三维电磁场的有限元分析 | 第35-37页 |
| 3.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 超导圆柱形屏蔽体磁屏蔽的理论分析 | 第38-42页 |
| 4.1 强磁场中通过超导体侵入的磁场 | 第38-39页 |
| 4.2 弱磁场中通过超导体侵入的磁场 | 第39-41页 |
| 4.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第5章 含超导的多层圆柱形屏蔽体磁屏蔽的仿真研究 | 第42-82页 |
| 5.1 引言 | 第42页 |
| 5.2 单层超导圆柱形屏蔽体磁屏蔽的仿真研究 | 第42-55页 |
| 5.2.1 Maxwell 3D模型 | 第42-43页 |
| 5.2.2 屏蔽体结构尺寸 | 第43-44页 |
| 5.2.3 仿真参数的设置 | 第44-45页 |
| 5.2.4 仿真结果与分析 | 第45-55页 |
| 5.3 铁与超导体组合的两层圆柱形屏蔽体磁屏蔽仿真研究 | 第55-64页 |
| 5.3.1 Maxwell 3D模型 | 第55-56页 |
| 5.3.2 屏蔽体结构尺寸 | 第56页 |
| 5.3.3 仿真参数的设置 | 第56-57页 |
| 5.3.4 仿真结果与分析 | 第57-64页 |
| 5.4 铜与超导体组合的两层圆柱形屏蔽体磁屏蔽仿真研究 | 第64-73页 |
| 5.4.1 Maxwell 3D模型 | 第64页 |
| 5.4.2 屏蔽体结构尺寸 | 第64-65页 |
| 5.4.3 仿真参数的设置 | 第65-66页 |
| 5.4.4 仿真结果与分析 | 第66-73页 |
| 5.5 铜、铁和超导体组合的三层圆柱形屏蔽体磁屏蔽仿真研究 | 第73-81页 |
| 5.5.1 Maxwell 3D模型 | 第73页 |
| 5.5.2 屏蔽体结构尺寸 | 第73-74页 |
| 5.5.3 仿真参数的设置 | 第74-75页 |
| 5.5.4 仿真结果与分析 | 第75-81页 |
| 5.6 本章小结 | 第81-82页 |
| 结论与展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第90页 |
