| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 四配位荧光有机氮硼烷 | 第10-18页 |
| 1.1.1 氮杂环硼衍生物 | 第10-12页 |
| 1.1.2 苯酚基吡啶氮硼衍生物 | 第12-13页 |
| 1.1.3 双氮杂环硼衍生物 | 第13-15页 |
| 1.1.4 羟基喹啉硼衍生物 | 第15-18页 |
| 1.2 四配位有机氮硼烷的催化应用 | 第18-21页 |
| 1.2.1 受阻路易斯酸碱对(FLPs) | 第19-21页 |
| 1.3 研究工作的目的及意义 | 第21-22页 |
| 1.4 本课题拟开展研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 荧光标记的有机氮硼烷的合成 | 第23-51页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 实验部分 | 第23-35页 |
| 2.2.1 仪器与试剂 | 第23-26页 |
| 2.2.2 实验原料的合成 | 第26-35页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第35-43页 |
| 2.3.1 反应条件的优化 | 第35-38页 |
| 2.3.2 荧光标记的有机氮硼烷化合物的底物拓展 | 第38-43页 |
| 2.4 产物的合成与结构表征 | 第43-50页 |
| 2.4.1 产物的合成 | 第43-49页 |
| 2.4.2 产物单晶结构 | 第49-50页 |
| 2.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 第3章 荧光标记有机氮硼烷的性质分析及应用研究 | 第51-66页 |
| 3.1 引言 | 第51页 |
| 3.2 性质结构分析 | 第51-55页 |
| 3.2.1 光物理性质 | 第51-54页 |
| 3.2.2 DFT计算分析 | 第54页 |
| 3.2.3 热稳定性分析 | 第54-55页 |
| 3.3 催化应用 | 第55-64页 |
| 3.3.1 仪器与试剂 | 第55页 |
| 3.3.2 荧光标记的有机氮硼烷催化剂在Hantzsch反应中的应用 | 第55-59页 |
| 3.3.3 催化合成1,2-二取代苯并咪唑 | 第59-62页 |
| 3.3.4 催化合成(E)-α,β-不饱和酮 | 第62页 |
| 3.3.5 催化Mannich反应 | 第62-63页 |
| 3.3.6 催化剂3s的紫外下荧光检测范围 | 第63-64页 |
| 3.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 第4章 新型四配位外消旋手性有机氮硼烷的合成与表征 | 第66-77页 |
| 4.1 引言 | 第66页 |
| 4.2 实验部分 | 第66-67页 |
| 4.2.1 仪器与试剂 | 第66-67页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第67-76页 |
| 4.3.1 外消旋手性荧光氮硼烷的底物拓展 | 第67-70页 |
| 4.3.2 产物的合成与结构表征 | 第70-73页 |
| 4.3.3 产物4b单晶结构 | 第73-74页 |
| 4.3.4 光物理性质 | 第74-75页 |
| 4.3.5 热稳定性分析 | 第75-76页 |
| 4.4 本章小结 | 第76-77页 |
| 结论与展望 | 第77-78页 |
| 一、论文的主要研究成果与结论 | 第77页 |
| 二、后续工作的建议和展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-90页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第90-91页 |
| 附录B 攻读学位期间所申请的专利目录 | 第91-92页 |
| 附录C 部分原料和产物的NMR谱图 | 第92-185页 |
| 致谢 | 第185页 |