中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-25页 |
1.1 铁电薄膜材料的研究进展 | 第10-13页 |
1.2 铁电薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
1.2.1 磁控溅射法(Magnetron sputtering) | 第13-14页 |
1.2.2 脉冲激光沉积法(Pulsed laser deposition) | 第14页 |
1.2.3 溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第14-15页 |
1.3 制备工艺对铁电薄膜显微结构的影响 | 第15-19页 |
1.3.1 前驱体的化学性质 | 第15-16页 |
1.3.2 前驱体陈化时间的影响 | 第16-17页 |
1.3.3 种子层的影响 | 第17-18页 |
1.3.4 薄膜厚度的影响 | 第18-19页 |
1.4 BaTi_2O_5材料的研究现状 | 第19-24页 |
1.4.1 BaTi_2O_5的晶体结构 | 第19-20页 |
1.4.2 BaTi_2O_5材料的制备 | 第20-22页 |
1.4.3 BaTi_2O_5材料的掺杂改性研究 | 第22-24页 |
1.5 本论文的研究目的及主要内容 | 第24-25页 |
第2章 BaTi_2O_5薄膜的制备及表征 | 第25-33页 |
2.1 实验原料及设备 | 第25-26页 |
2.1.1 实验原料 | 第25-26页 |
2.1.2 实验仪器及设备 | 第26页 |
2.2 前驱体溶胶的配制 | 第26-27页 |
2.3 薄膜的制备 | 第27-29页 |
2.3.1 基片的清洗 | 第27-28页 |
2.3.2 薄膜的制备 | 第28页 |
2.3.3 粉体和薄膜的热处理 | 第28页 |
2.3.4 磁控溅射制备薄膜上电极 | 第28-29页 |
2.4 薄膜结构与性能的表征方法 | 第29-33页 |
2.4.1 热分析 | 第29页 |
2.4.2 X射线衍射分析(XRD) | 第29-30页 |
2.4.3 拉曼光谱分析 | 第30页 |
2.4.4 薄膜表面及断面形貌分析 | 第30-31页 |
2.4.5 薄膜的介电性能 | 第31页 |
2.4.6 薄膜的铁电性能 | 第31-32页 |
2.4.7 薄膜的压电性能 | 第32-33页 |
第3章 BaTi_2O_5薄膜的制备工艺 | 第33-44页 |
3.1 前驱体浓度 | 第33-34页 |
3.2 热处理条件 | 第34-39页 |
3.3 不同基板对BaTi_2O_5薄膜的性能影响 | 第39-43页 |
3.3.1 XRD分析 | 第40页 |
3.3.2 薄膜形貌分析 | 第40-41页 |
3.3.3 铁电性能分析 | 第41-42页 |
3.3.4 介电性能分析 | 第42-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-44页 |
第4章 等价掺杂对BaTi_2O_5薄膜结构和性能的影响 | 第44-55页 |
4.1 Ba_(1-x)Ca_xTi_2O_5粉体的合成 | 第44-45页 |
4.2 Ba_(1-x)Ca_xTi_2O_5薄膜的制备 | 第45-46页 |
4.3 Ba_(1-x)Ca_xTi_2O_5薄膜形貌 | 第46-47页 |
4.4 Ba_(1-x)Ca_xTi_2O_5薄膜的电学性能 | 第47-49页 |
4.4.1 铁电性能分析 | 第47-48页 |
4.4.2 介电性能分析 | 第48-49页 |
4.5 Ba_(1-x)Sr_xTi_2O_5薄膜的制备 | 第49-50页 |
4.6 Ba_(1-x)Sr_xTi_2O_5薄膜形貌分析 | 第50-52页 |
4.7 Ba_(1-x)Sr_xTi_2O_5薄膜的电学性能 | 第52-53页 |
4.7.1 铁电性能分析 | 第52页 |
4.7.2 介电性能分析 | 第52-53页 |
4.8 本章小结 | 第53-55页 |
第5章 Fe掺杂对BaTi_2O_5薄膜结构和性能的影响 | 第55-61页 |
5.1 BaFe_x Ti_(2-x)O_5薄膜的制备 | 第55-56页 |
5.2 BaFe_x Ti_(2-x)O_5薄膜形貌分析 | 第56-57页 |
5.3 BaFe_x Ti_(2-x)O_5薄膜的电学性能 | 第57-60页 |
5.3.1 铁电性能分析 | 第57-58页 |
5.3.2 压电性能分析 | 第58-59页 |
5.3.3 介电性能分析 | 第59-60页 |
5.4 本章小结 | 第60-61页 |
第6章 结论与展望 | 第61-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-70页 |
硕士期间发表论文 | 第70页 |