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电磁场辅助下氧化石墨烯的制备及其形貌调控

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-27页
    1.1 石墨烯的概述第11-14页
        1.1.1 石墨烯的结构及性质第11-12页
        1.1.2 石墨烯的制备方法第12-13页
        1.1.3 石墨烯应用第13-14页
    1.2 氧化石墨烯的概述第14-20页
        1.2.1 氧化石墨烯的结构及性质第14-15页
        1.2.2 氧化石墨烯的制备第15-18页
        1.2.3 氧化石墨烯的应用第18-20页
    1.3 电磁场的概述第20-27页
        1.3.1 电磁场及其应用第20-22页
        1.3.2 交变电磁场与物质间的相互作用第22-23页
        1.3.3 电磁场的应用第23-27页
第二章 电磁场辅助高锰酸钾氧化鳞片石墨第27-37页
    2.1 引言第27-28页
    2.2 实验试剂、仪器及表征手段第28-29页
        2.2.1 实验试剂及仪器第28-29页
        2.2.2 实验表征手段第29页
    2.3 实验部分第29-30页
        2.3.1 电磁场辅助高锰酸钾氧化鳞片石墨第29-30页
        2.3.2 反应装置示意图第30页
    2.4 结果与讨论第30-36页
        2.4.1 温度及电磁场对反应的影响第30-31页
        2.4.2 感应线圈结构对反应的影响第31-34页
        2.4.3 高锰酸钾用量对反应的影响第34-36页
    2.5 本章小结第36-37页
第三章 石墨及氧化石墨烯的臭氧氧化反应第37-53页
    3.1 引言第37-38页
    3.2 实验试剂、仪器及表征手段第38-39页
        3.2.1 实验试剂及仪器第38-39页
        3.2.2 实验表征手段第39页
    3.3 实验部分第39-40页
        3.3.1 电磁场辅助臭氧氧化鳞片石墨第39页
        3.3.2 氧化石墨的制备第39-40页
        3.3.3 氧化石墨烯的臭氧二次氧化处理第40页
        3.3.4 超级电容器性能评价第40页
    3.4 结果与讨论第40-51页
        3.4.1 电磁场辅助下鳞片石墨的臭氧化处理第40-43页
        3.4.2 GO的臭氧二次氧化处理第43-50页
        3.4.4 OGO-4的水热还原以及ROGO的电容性能研究第50-51页
    3.5 本章小结第51-53页
第四章 电磁场诱导下氧化石墨烯的形貌调控第53-65页
    4.1 引言第53-54页
    4.2 实验试剂、仪器及表征手段第54-55页
        4.2.1 实验试剂与仪器第54页
        4.2.2 实验表征手段第54-55页
    4.3 实验部分第55页
        4.3.1 GO及RGO粉体的制备第55页
    4.4 结果与讨论第55-63页
        4.4.1 不同方式调控制备的不同形貌的氧化石墨烯第55-57页
        4.4.2 不同形貌氧化石墨烯的热还原第57-61页
        4.4.3 GO-ZP不同温度热还原及电容性能研究第61-63页
    4.5 本章小结第63-65页
第五章 结论第65-67页
参考文献第67-75页
致谢第75页

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