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石墨烯光电探测器件的制备及性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 引言第10-26页
    1.1 石墨烯光电探测器的概述第11-21页
        1.1.1 石墨烯的发现第11页
        1.1.2 石墨烯的形态结构第11-12页
        1.1.3 石墨烯的性能简介第12-15页
        1.1.4 石墨烯的制备方法第15-17页
        1.1.5 石墨烯光电探测器的概述第17-18页
        1.1.6 石墨烯光电探测器的器件结构第18-20页
        1.1.7 石墨烯光电探测器的工作原理第20-21页
    1.2 石墨烯光电探测器的应用前景与研究现状第21-22页
        1.2.1 石墨烯光电探测器的应用前景第21页
        1.2.2 石墨烯光电探测器的研究现状第21-22页
    1.3 光电探测器的噪声和品质因数第22-23页
        1.3.1 光电探测器件的噪声第22-23页
        1.3.2 光电探测器件的品质因数第23页
    1.4 本论文研究目标与内容第23-26页
        1.4.1 论文研究目标第23页
        1.4.2 论文研究内容与结构安排第23-26页
2 石墨烯薄膜的CVD法制备与结构表征第26-40页
    2.1 实验所需设备与材料第26-27页
        2.1.1 实验所需设备第26页
        2.1.2 实验所需材料第26-27页
    2.2 石墨烯薄膜的制备及转移第27-31页
        2.2.1 石墨烯薄膜的CVD生长工艺研究第27-29页
        2.2.2 石墨烯的转移第29-31页
    2.3 石墨烯薄膜的表征第31-39页
        2.3.1 光学显微镜分析第32页
        2.3.2 原子力显微表征第32-33页
        2.3.3 扫描电子显微镜表征第33-35页
        2.3.4 拉曼光谱表征第35-36页
        2.3.5 方阻表征第36-38页
        2.3.6 透过率表征第38-39页
    2.4 本章小结第39-40页
3 石墨烯场效应结构光电探测器件制备的工艺研究第40-50页
    3.1 光刻工艺及正胶的选择第40-42页
    3.2 石墨烯薄膜的图形化工艺第42-43页
    3.3 石墨烯与金属的接触工艺研究第43页
    3.4 金属蒸发剥离工艺研究第43-45页
    3.5 退火对器件性能的影响第45页
    3.6 石墨烯场效应结构光电探测器的制备第45-48页
    3.7 本章小结第48-50页
4 石墨烯场效应结构光电探测器件的电学与光学特性研究第50-62页
    4.1 硅基石墨烯场效应结构光电探测器的制备与工作原理第50-51页
    4.2 测试设备和测试条件第51-52页
    4.3 石墨烯场效应结构光电探测器件的电学性能研究第52-58页
        4.3.1 石墨烯的电阻特性第52-53页
        4.3.2 双极型转移特性曲线第53-56页
        4.3.3 双极型电学特性的机理分析第56-58页
    4.4 石墨烯场效应结构光电探测器件的光学特性研究第58-61页
        4.4.1 石墨烯的光学性质第58-59页
        4.4.2 石墨烯中光电流的产生方式第59页
        4.4.3 器件的电学特性测试第59-61页
    4.5 本章小结第61-62页
5 石墨烯/硅异质结光电探测器件的制备及性能研究第62-68页
    5.1 异质结光电探测器件的制备与所需测试设备第62-64页
        5.1.1 所需测试设备第62页
        5.1.2 石墨烯/硅基异质结结构光电探测器件的制备第62-64页
    5.2 石墨烯/硅异质结光电探测器件结构第64页
    5.3 石墨烯/硅异质结光电探测器件的工作原理第64-65页
    5.4 石墨烯/硅异质结光电探测器件的性能测试第65-67页
    5.5 本章小结第67-68页
6 总结与展望第68-71页
    6.1 论文工作总结第68-69页
    6.2 论文研究工作主要创新点第69页
    6.3 未来研究工作的展望第69-71页
致谢第71-73页
参考文献第73-79页
个人简历、在学期间发表的学术论文及取得的研究成果第79-80页

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