| 摘要 | 第3-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第14-31页 |
| 1.1 亚波长微纳结构的基本概念 | 第14-16页 |
| 1.2 亚波长结构的理论研究进展 | 第16-17页 |
| 1.3 亚波长结构的制备方法 | 第17-25页 |
| 1.3.1 自下而上的加工方法 | 第18-19页 |
| 1.3.2 自上而下的加工方法 | 第19-25页 |
| 1.4 亚波长结构的应用研究进展 | 第25-27页 |
| 1.5 本项目研究的背景和意义 | 第27-29页 |
| 1.6 本文的研究内容 | 第29-31页 |
| 第二章 亚波长结构的理论模拟方法 | 第31-51页 |
| 2.1 概述 | 第31-34页 |
| 2.2 基于FDTD的亚波长结构减反射性能设计模拟 | 第34-40页 |
| 2.3 亚波长结构对光场的调控特性模拟 | 第40-49页 |
| 2.3.1 亚波长微结构对355nm波长的调控情况 | 第40-44页 |
| 2.3.2 亚波长结构对532nm光的调制 | 第44-46页 |
| 2.3.3 亚波长结构对1064nm光波的调制作用 | 第46-49页 |
| 2.3.4 亚波长结构轮廓对光场的调控情况 | 第49页 |
| 2.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第三章 基于胶体晶体模板法制备亚波长结构及其减反射性能研究 | 第51-70页 |
| 3.1 引言 | 第51-53页 |
| 3.2 实验部分 | 第53-54页 |
| 3.3 单层胶体晶体模板的制备 | 第54-59页 |
| 3.3.1 胶体晶体自组装机理分析 | 第54页 |
| 3.3.2 气液界面组装单层胶体晶体模板 | 第54-59页 |
| 3.4 亚波长结构的制备及其光学性能 | 第59-69页 |
| 3.4.1 一步法制备周期性亚波长结构及光学性能分析 | 第59-64页 |
| 3.4.2 两步法制备周期性亚波长结构 | 第64-67页 |
| 3.4.3 亚波长结构的光学性能研究: | 第67-69页 |
| 3.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 第四章 热退火模板法制备随机亚波长结构及其减反射性能研究 | 第70-78页 |
| 4.1 引言 | 第70-71页 |
| 4.2 实验部分 | 第71-72页 |
| 4.3 热退火机理分析与亚波长结构制备研究: | 第72-75页 |
| 4.4 亚波长结构的光学性能 | 第75-77页 |
| 4.5 本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 自掩模法制备随机亚波长结构及其减反射性能研究 | 第78-90页 |
| 5.1 概述 | 第78-80页 |
| 5.2 实验部分 | 第80页 |
| 5.3 聚合物自掩模机理分析与亚波长结构的控制 | 第80-82页 |
| 5.4 亚波长结构的控制及光学性能研究 | 第82-86页 |
| 5.5 光栅结构表面的亚波长结构 | 第86-87页 |
| 5.6 亚波长结构的表面功能性研究 | 第87-89页 |
| 5.7 本章小结 | 第89-90页 |
| 第六章 亚波长结构的损伤机理研究 | 第90-116页 |
| 6.1 概述 | 第90-93页 |
| 6.2 缺陷检测技术简介 | 第93-95页 |
| 6.2.1 荧光共焦显微镜技术简介 | 第93-94页 |
| 6.2.2 Tof-Sims技术简介 | 第94页 |
| 6.2.3 光热弱吸收技术 | 第94-95页 |
| 6.3 实验部分 | 第95-96页 |
| 6.4 熔石英基片亚表面缺陷及损伤性能 | 第96-101页 |
| 6.5 亚波长结构的损伤性能研究 | 第101-114页 |
| 6.5.1 亚波长结构表面的结构性缺陷 | 第101-102页 |
| 6.5.2 亚波长结构的杂质元素分析 | 第102-109页 |
| 6.5.3 亚波长结构的光热弱吸收分析 | 第109-111页 |
| 6.5.4 亚波长结构的激光损伤性能分析 | 第111-114页 |
| 6.6 本章小结 | 第114-116页 |
| 第七章 总结与展望 | 第116-120页 |
| 7.1 总结 | 第116-118页 |
| 7.2 创新点分析 | 第118页 |
| 7.3 展望 | 第118-120页 |
| 致谢 | 第120-122页 |
| 参考文献 | 第122-130页 |
| 附录 | 第130-132页 |
