| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 多弧离子镀膜技术的发展概况 | 第9-12页 |
| 1.2.1 国内研究发展概况 | 第9-10页 |
| 1.2.2 国外研究现状及发展动态 | 第10-12页 |
| 1.3 多弧离子镀膜技术的应用及趋势 | 第12-13页 |
| 1.4 课题研究目的与内容 | 第13-16页 |
| 第二章 等离子体运动及离子镀沉积 | 第16-26页 |
| 2.1 等离子体定义和分类 | 第16-17页 |
| 2.2 等离子体的动力 | 第17-22页 |
| 2.2.1 基本运动 | 第17-18页 |
| 2.2.2 在均匀场中的运动 | 第18-20页 |
| 2.2.3 E×B漂移 | 第20-22页 |
| 2.3 多弧离子镀的沉积 | 第22-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-26页 |
| 第三章 基于FEMM软件的离子弧源磁路分析 | 第26-38页 |
| 3.1 磁场对弧源放电的影响 | 第26-27页 |
| 3.2 基于FEMM软件的弧源磁路模拟 | 第27-33页 |
| 3.2.1 软件FEMM简介 | 第27-28页 |
| 3.2.2 离子弧源的模型分析 | 第28-33页 |
| 3.3 弧源磁路的锐角效应和磁路聚焦 | 第33-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 离子弧源靶体热分析及其弧源结构设计 | 第38-54页 |
| 4.1 温度场的数学模型 | 第38-40页 |
| 4.1.1 温度场 | 第38-39页 |
| 4.1.2 热传递的基本方式 | 第39-40页 |
| 4.2 基于ANSYS软件的弧源热学性能分析 | 第40-48页 |
| 4.3 基于SolidWorks软件的弧源结构设计 | 第48-53页 |
| 4.3.1 靶体与靶座的冷却及密封 | 第48-50页 |
| 4.3.2 轴对称磁场的设计 | 第50-51页 |
| 4.3.3 水冷管及其密封设计 | 第51-52页 |
| 4.3.4 外壳法兰及聚焦磁铁设计 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 离子镀的相关拓展及基于微钻的镀膜测试 | 第54-66页 |
| 5.1 离子弧源的相关辅助设计提要 | 第54-57页 |
| 5.1.1 关于等离子体运输说明 | 第54-55页 |
| 5.1.2 关于转架、布气以及加热系统 | 第55-57页 |
| 5.2 离子弧源的性能实测 | 第57-60页 |
| 5.3 基于微钻的镀膜测试 | 第60-65页 |
| 5.3.1 PCB微钻概况 | 第60-61页 |
| 5.3.2 基于PCB微钻的测试及其结果分析 | 第61-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 结论与展望 | 第66-68页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |