| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 硬质薄膜的分类 | 第12-14页 |
| 1.2.1 本征硬质薄膜 | 第12-13页 |
| 1.2.2 微结构强化硬质薄膜 | 第13-14页 |
| 1.3 纳米多层膜 | 第14-21页 |
| 1.3.1 纳米多层膜的基本概念 | 第14-15页 |
| 1.3.2 纳米多层膜的超硬机制 | 第15-16页 |
| 1.3.3 纳米多层膜的结构分类 | 第16-18页 |
| 1.3.4 纳米多层膜中的模板效应与非晶晶化 | 第18-19页 |
| 1.3.5 含氧化物纳米多层膜 | 第19-21页 |
| 1.4 含AlN 纳米多层膜的研究 | 第21-23页 |
| 1.4.1 六方结构的AlN | 第21-22页 |
| 1.4.2 六方AlN 在多层膜中的结构转变 | 第22-23页 |
| 1.5 本课题的设计思想与研究内容 | 第23-26页 |
| 1.5.1 本课题的设计思想 | 第23-24页 |
| 1.5.2 本课题的研究内容 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第二章 薄膜的制备与检测 | 第30-40页 |
| 2.1 薄膜制备原理和实验设备 | 第30-34页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第30-33页 |
| 2.1.2 镀膜设备 | 第33-34页 |
| 2.2 薄膜检测方法与检测设备 | 第34-39页 |
| 2.2.1 X 射线衍射(XRD) | 第34页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第34-35页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第35页 |
| 2.2.4 能量散布光谱仪(EDS) | 第35页 |
| 2.2.5 微力学探针(Nano-indentor) | 第35-37页 |
| 2.2.6 两步压入法 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第三章 反应磁控溅射TiN/AlON 纳米多层膜的微结构与力学性能 | 第40-50页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 TiN/AlON 纳米多层膜的制备 | 第40-42页 |
| 3.3 TiN/AlON 纳米多层膜的测试结果 | 第42-46页 |
| 3.3.1 N2分压对AlON 单层膜中氮含量的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.2 TiN/AlON 纳米多层膜的微结构 | 第43-45页 |
| 3.3.3 纳米多层膜的力学性能 | 第45-46页 |
| 3.4 讨论 | 第46-47页 |
| 3.4.1 纳米多层膜的生长结构 | 第46页 |
| 3.4.2 TiN/AlON 纳米多层膜的强化 | 第46-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第四章 AlN/Ti82纳米多层膜的生长结构与力学性能 | 第50-56页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 AlN/Ti82纳米多层膜的制备 | 第50-51页 |
| 4.3 实验结果 | 第51-53页 |
| 4.3.1 纳米多层膜的调制结构 | 第51-53页 |
| 4.3.2 AlN/Ti82纳米多层膜的力学性能 | 第53页 |
| 4.4 讨论 | 第53-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第五章 金属基体上硬质薄膜内应力测量法 | 第56-63页 |
| 5.1 引言 | 第56页 |
| 5.2 实验原理与过程 | 第56-58页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第58-61页 |
| 5.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第66页 |
