| 内容提要 | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-51页 |
| 1.1 表面抗反射简述 | 第9-17页 |
| 1.1.1 表面抗反射的原理 | 第10-14页 |
| 1.1.2 表面抗反射分类 | 第14-16页 |
| 1.1.3 表面抗反射的应用 | 第16-17页 |
| 1.2 薄膜抗反射 | 第17-20页 |
| 1.2.1 单层膜 | 第17-19页 |
| 1.2.2 多层膜 | 第19页 |
| 1.2.3 夹心式多层膜 | 第19-20页 |
| 1.3 微结构抗反射 | 第20-32页 |
| 1.3.1 自组装技术构筑抗反射结构 | 第21-24页 |
| 1.3.2 刻蚀技术构筑抗反射结构 | 第24-32页 |
| 1.4 仿生微结构 | 第32页 |
| 1.5 抗反射微结构的应用领域 | 第32-34页 |
| 1.5.1 提高太阳能电池光电转化效率 | 第32-33页 |
| 1.5.2 白光传感器 | 第33-34页 |
| 1.5.3 提高光学表面的损失阈值 | 第34页 |
| 1.6 本文的研究思路和主要研究内容 | 第34-37页 |
| 参考文献 | 第37-51页 |
| 第2章 优化刻蚀条件,制备符合要求的图案 | 第51-71页 |
| 2.1 引言 | 第51-52页 |
| 2.2 实验部分 | 第52-54页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第52页 |
| 2.2.2 制备刻蚀阻层(单层的PS纳米粒子) | 第52-53页 |
| 2.2.3 以单层纳米粒子为刻蚀掩膜的RIE刻蚀过程 | 第53-54页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第54-67页 |
| 2.3.1 单层纳米粒子组装条件的选择 | 第54-56页 |
| 2.3.2 刻蚀条件的选择 | 第56-66页 |
| 2.3.2.1 刻蚀气体比例的选择 | 第58-61页 |
| 2.3.3.2 刻蚀气体的组分 | 第61-64页 |
| 2.3.2.3 刻蚀时间 | 第64-66页 |
| 2.3.3 刻蚀过程分析 | 第66-67页 |
| 2.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 第3章 利用刻蚀技术在硅基底上制备抗反射结构 | 第71-97页 |
| 3.1 引言 | 第71-72页 |
| 3.2 实验部分 | 第72-73页 |
| 3.2.1 仪器和试剂 | 第72-73页 |
| 3.2.2 抗反射结构的构筑 | 第73页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第73-93页 |
| 3.3.1 硅纳米锥形结构的制备过程 | 第73-81页 |
| 3.3.2 硅纳米结构的周期与其抗反射光谱的关系 | 第81-83页 |
| 3.3.3 微纳米复合结构的抗反射性能研究 | 第83-93页 |
| 3.4 本章小结 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-97页 |
| 第4章 研究抗反射的能量转移和释放过程 | 第97-117页 |
| 4.1 引言 | 第97-98页 |
| 4.2 实验部分 | 第98-99页 |
| 4.2.1 试剂和仪器 | 第98-99页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第99页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第99-114页 |
| 4.3.1 石英基底上不同周期的抗反射微结构 | 第99-106页 |
| 4.3.2 研究抗反射结构吸收光能与荧光分子发射光的关系 | 第106-114页 |
| 4.4 本章小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-117页 |
| 攻读博士学位期间所发表的论文 | 第117-119页 |
| 作者简历 | 第119-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 摘要 | 第122-124页 |
| Abstract | 第124-125页 |