| 致谢 | 第4-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 缩咯语 | 第10-12页 |
| 目次 | 第12-14页 |
| 1 引言 | 第14-17页 |
| 2 实验材料 | 第17-23页 |
| 2.1 主要设备仪器 | 第17页 |
| 2.2 主要耗材 | 第17-18页 |
| 2.3 细胞及培养液 | 第18页 |
| 2.4 主要试剂 | 第18-19页 |
| 2.5 缓冲液和常用试剂配制 | 第19-21页 |
| 2.6 工频磁场暴露系统 | 第21-22页 |
| 2.7 分析软件 | 第22-23页 |
| 3 实验方法 | 第23-34页 |
| 3.1 工频磁场暴露对FL细胞内总活性氧产生的影响 | 第23-24页 |
| 3.2 工频磁场诱导FL细胞总活性氧产生的强度(剂量)-效应关系 | 第24-25页 |
| 3.3 工频磁场暴露对FL细胞线粒体内活性氧产生的影响 | 第25-26页 |
| 3.4 工频磁场暴露对FL细胞胞浆内活性氧产生的影响 | 第26-27页 |
| 3.5 工频磁场暴露对FL细胞NADPH氧化酶活性的影响 | 第27-28页 |
| 3.6 NADPH氧化酶与工频磁场诱导FL细胞活性氧产生的相关性研究 | 第28-31页 |
| 3.6.1 NADPH氧化酶对工频磁场诱导FL细胞内总ROS产生的影响 | 第28-29页 |
| 3.6.2 NADPH氧化酶对工频磁场诱导FL细胞线粒体内ROS产生的影响 | 第29-30页 |
| 3.6.3 NADPH氧化酶对工频磁场诱导FL细胞胞浆内ROS产生的影响 | 第30-31页 |
| 3.7 NADPH氧化酶在工频磁场诱导FL细胞膜受体聚簇中的作用 | 第31-34页 |
| 4 实验结果 | 第34-45页 |
| 4.1 工频磁场暴露对FL细胞内总活性氧产生的影响 | 第34页 |
| 4.2 工频磁场诱导FL细胞总活性氧产生的强度(剂量)-效应关系 | 第34-35页 |
| 4.3 工频磁场暴露对FL细胞线粒体内活性氧产生的影响 | 第35-36页 |
| 4.4 工频磁场暴露对FL细胞胞浆内活性氧产生的影响 | 第36-37页 |
| 4.5 工频磁场暴露对FL细胞NADPH氧化酶活性的影响 | 第37-38页 |
| 4.6 NADPH氧化酶与工频磁场诱导FL细胞活性氧产生的相关性研究 | 第38-41页 |
| 4.6.1 NADPH氧化酶对工频磁场诱导FL细胞内总ROS产生的影响 | 第39页 |
| 4.6.2 NADPH氧化酶对工频磁场诱导FL细胞线粒体内ROS产生的影响 | 第39-40页 |
| 4.6.3 NADPH氧化酶对工频磁场诱导FL细胞胞浆内ROS产生的影响 | 第40-41页 |
| 4.7 NADPH氧化酶在工频磁场诱导FL细胞膜受体聚簇中的作用 | 第41-45页 |
| 5 讨论 | 第45-48页 |
| 6 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 综述 | 第54-67页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 作者简介及科研成果 | 第67页 |
