| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 黄铜矿和方铅矿的浮选捕收剂 | 第13-15页 |
| 1.2 黄铜矿和方铅矿浮选分离的抑制剂 | 第15-20页 |
| 1.2.1 抑铅浮铜工艺 | 第15-19页 |
| 1.2.2 抑铜浮铅工艺 | 第19-20页 |
| 1.2.3 抑铜浮铅-抑铅浮铜联合工艺 | 第20页 |
| 1.3 方铅矿抑制剂的作用机理研究 | 第20-23页 |
| 1.3.1 无机抑制剂对方铅矿的抑制作用 | 第20-21页 |
| 1.3.2 有机抑制剂抑制方铅矿的作用机理 | 第21-23页 |
| 1.4 分子动力学模拟 | 第23-27页 |
| 1.4.1 经典力学定律 | 第23-24页 |
| 1.4.2 分子动力学模拟的运算流程 | 第24页 |
| 1.4.3 经典势场 | 第24-27页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第27-29页 |
| 第2章 试验材料和研究方法 | 第29-35页 |
| 2.1 试样和试剂 | 第29-30页 |
| 2.1.1 试验用矿样 | 第29-30页 |
| 2.1.2 试验用试剂 | 第30页 |
| 2.2 试验仪器及设备 | 第30-31页 |
| 2.3 试验研究方法 | 第31-35页 |
| 2.3.1 浮选试验 | 第31-32页 |
| 2.3.2 动电位测试 | 第32页 |
| 2.3.3 吸附量测定 | 第32-33页 |
| 2.3.4 红外光谱测试 | 第33页 |
| 2.3.5 X射线衍射测试 | 第33页 |
| 2.3.6 TOF-SIMS测试 | 第33-35页 |
| 第3章 两种小分子有机抑制剂的合成和表征 | 第35-45页 |
| 3.1 有机抑制剂分子设计的基本原则 | 第35页 |
| 3.2 2,3-二羟基丙基二硫代碳酸钠(SGX)的合成 | 第35-39页 |
| 3.2.1 合成机理 | 第36页 |
| 3.2.2 合成操作 | 第36-38页 |
| 3.2.3 合成过程可能存在的副反应 | 第38-39页 |
| 3.2.4 合成产品的红外光谱分析 | 第39页 |
| 3.3 O,O-二(2,3-二羟基丙基)二硫代磷酸(DHDTP)的合成 | 第39-45页 |
| 3.3.1 合成机理 | 第40页 |
| 3.3.2 合成操作 | 第40-41页 |
| 3.3.3 合成过程可能存在的副反应 | 第41-42页 |
| 3.3.4 合成产品的红外光谱分析 | 第42-45页 |
| 第4章 两种小分子有机抑制剂对黄铜矿和方铅矿的抑制作用研究 | 第45-69页 |
| 4.1 乙硫氮浮选体系中对黄铜矿和方铅矿的抑制效果 | 第45-51页 |
| 4.1.1 乙硫氮对黄铜矿和方铅矿的捕收性能 | 第45-46页 |
| 4.1.2 重铬酸钾对黄铜矿和方铅矿的抑制效果 | 第46-48页 |
| 4.1.3 2,3-二羟基丙基二硫代碳酸钠对黄铜矿和方铅矿的抑制效果 | 第48-49页 |
| 4.1.4 O,O-二(2,3-二羟基丙基)二硫代磷酸对黄铜矿和方铅矿的抑制效果 | 第49-51页 |
| 4.2 丁铵黑药浮选体系中对黄铜矿和方铅矿的抑制效果 | 第51-57页 |
| 4.2.1 丁铵黑药对黄铜矿和方铅矿的浮选效果 | 第51-52页 |
| 4.2.2 重铬酸钾对黄铜矿和方铅矿的抑制效果 | 第52-54页 |
| 4.2.3 2,3.二羟基丙基二硫代碳酸钠对黄铜矿和方铅矿的抑制效果 | 第54-55页 |
| 4.2.4 O,O-二(2,3-二羟基丙基)二硫代磷酸对黄铜矿和方铅矿的抑制效果 | 第55-57页 |
| 4.3 人工混合矿的浮选试验 | 第57-66页 |
| 4.3.1 乙硫氮浮选体系中的分离试验 | 第57-62页 |
| 4.3.2 丁铵黑药浮选体系中的分离试验 | 第62-66页 |
| 4.4 小结 | 第66-69页 |
| 第5章 两种小分子有机抑制剂与黄铜矿和方铅矿表面的作用机理 | 第69-85页 |
| 5.1 矿物表面的动电位分析 | 第69-73页 |
| 5.1.1 药剂作用下黄铜矿表面的动电位分析 | 第69-71页 |
| 5.1.2 药剂作用下方铅矿表面的动电位分析 | 第71-73页 |
| 5.2 药剂与矿物表面作用的红外光谱分析 | 第73-79页 |
| 5.2.1 药剂与黄铜矿表面作用的红外光谱分析 | 第73-77页 |
| 5.2.2 药剂与方铅矿表面作用的红外光谱分析 | 第77-79页 |
| 5.3 两种小分子有机抑制剂在黄铜矿和方铅矿表面的吸附行为 | 第79-82页 |
| 5.3.1 SGX在黄铜矿和方铅矿表面的吸附 | 第79-81页 |
| 5.3.2 DHDTP在矿物表面的吸附 | 第81-82页 |
| 5.4 两种小分子有机抑制剂在矿物表面的TOF-SIMS分析 | 第82-84页 |
| 5.4.1 SGX在矿物表面的TOF-SIMS分析 | 第82-83页 |
| 5.4.2 DHDTP在矿物表面的TOF-SIMS分析 | 第83-84页 |
| 5.5 小结 | 第84-85页 |
| 第6章 两种小分子有机抑制剂的抑制性能分析和分子力学计算 | 第85-111页 |
| 6.1 两种小分子有机抑制剂的抑制性能分析 | 第85-88页 |
| 6.1.1 两种小分子有机抑制剂极性基团的电负性与抑制性能 | 第85-87页 |
| 6.1.2 两种小分子有机抑制剂的性能指数与抑制性能 | 第87-88页 |
| 6.2 药剂与矿物表面作用的分子力学计算 | 第88-109页 |
| 6.2.1 矿物和药剂的结构性质 | 第90-98页 |
| 6.2.2 药剂与黄铜矿表面作用的能量 | 第98-105页 |
| 6.2.3 药剂与方铅矿表面作用的能量 | 第105-109页 |
| 6.3 小结 | 第109-111页 |
| 第7章 结论 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-125页 |
| 攻读博士学位期间主要发表论文 | 第125-127页 |
| 致谢 | 第127-129页 |
| 作者简介 | 第129页 |
